一种高解析度干膜光阻剂制造技术

本发明专利技术涉及线路板生产制作技术领域，尤其涉及一种高解析度干膜光阻剂，其包含以下组分：高分子粘合剂A，活性单体B，丙烯酸酯类光固化单体，自由基引发剂C，N‑苯基甘氨酸，增塑剂，紫外光吸收剂，热聚合抑制剂；所述活性单体B为活性单体B1或/和活性单体B2，所述活性单体B占上述组分总质量的1％～10％。本发明专利技术所述的水溶液显影的干膜光阻剂的解析能力明显强于市售的干膜光阻剂；此外，本发明专利技术所述的干膜光阻剂的独立线附着力也有明显提升，且边墙结构垂直度好。因此，本发明专利技术所提供的高解析度干膜光阻剂具有广阔的应用前景和不菲的市场价值。

【技术实现步骤摘要】
一种高解析度干膜光阻剂
本专利技术涉及线路板生产制作
，尤其涉及一种高解析度干膜光阻剂。
技术介绍
一般情况下，干膜光阻剂的组份包含有丙烯酸或者甲基丙烯酸单体形成的热塑性聚合物、光聚合单体、热聚合抑制剂、自由基光引发剂、紫外光吸收剂。它们通常作为干膜卷出售，组份夹在柔性支持薄膜PET和覆盖膜PE之间。随着5G的普及，5G相关设备的线路板的线路密集度和精细度都有更高的要求。传统干膜光阻剂的解析精度一般介于光阻剂层厚度的0.8～1.0之间，一般情况下，干膜光阻剂的光阻剂层越厚，其解析精度越低；干膜光阻剂的光阻剂层越厚，其填充性能越好。在干膜光阻剂的实际应用中，其填充性能是一项重要指标，填充性能好可以更好解决铜面凹陷带来的缺陷；软硬结合板也要求干膜光阻剂有很好的填充性能的前提下有出色的解析精度。然而，随着线路线路越来越精密，对光阻剂的解析能力有越来越高的要求。
技术实现思路
为了进一步提升干膜光阻剂的解析度，本专利技术提供了一种全新的干膜光阻剂，其能够把解析精度提高到介于光阻剂层厚度的0.5～0.7之间，且在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高解析度干膜光阻剂，其特征在于，包含以下组分：/n高分子粘合剂A，活性单体B，丙烯酸酯类光固化单体，自由基引发剂C，N-苯基甘氨酸，增塑剂，紫外光吸收剂，热聚合抑制剂；/n其中，所述活性单体B为活性单体B1或/和活性单体B2，所述活性单体B占上述组分总质量的1％～10％；/n其中，活性单体B1的结构式为：/n

【技术特征摘要】
1.一种高解析度干膜光阻剂，其特征在于，包含以下组分：
高分子粘合剂A，活性单体B，丙烯酸酯类光固化单体，自由基引发剂C，N-苯基甘氨酸，增塑剂，紫外光吸收剂，热聚合抑制剂；
其中，所述活性单体B为活性单体B1或/和活性单体B2，所述活性单体B占上述组分总质量的1％～10％；
其中，活性单体B1的结构式为：



在活性单体B1中，n表示0～15的整数；
其中，活性单体B2的结构式为：



在活性单体B2中，n表示0～15的整数。


2.根据权利要求1所述的高解析度干膜光阻剂，其特征在于，所述高分子粘合剂A由60wt％的甲基丙烯酸酯，18wt％的甲基丙烯酸以及22wt％的丙烯酸正丁酯在甲基乙基酮溶剂中聚合而成。


3.根据权利要求1所述的高解析度干膜光阻剂，其特征在于，所述丙烯酸酯类光固化单体选自以下任一种或多种：乙氧化双酚A二丙烯酸酯，乙氧化双酚A二甲基丙烯酸酯，二缩三羟甲基丙烷四丙烯酸酯，六官能度聚酯丙烯酸酯，四官能度聚酯丙烯酸酯，三乙二醇二丙烯酸酯，4(乙氧基)壬基苯酚丙烯酸酯，8(乙氧基)壬基苯酚丙烯酸酯。


4.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜永杰，彭威，杨卫国，邓晓明，
申请(专利权)人：珠海市能动科技光学产业有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44