一种相控阵多焦点测量的方法、装置及存储介质制造方法及图纸

技术编号:26595148 阅读:37 留言:0更新日期:2020-12-04 21:16
本发明专利技术公开了一种相控阵多焦点测量的方法、装置及存储介质,该方法包括:用最大的焦点间距对选定聚焦线进行多焦点遍历发射聚焦,进而根据检测目标对应的回波数据范围确定检测目标在选定聚焦线上对应的目标区域,再将选定聚焦线划分为多个连续区域,并用不同的焦点间距对不同连续区域同时进行多焦点发射聚焦,且目标区域所在的一个连续区域对应的焦点间距最小,这样能够使相控阵根据实际需要进行自适应调整焦点间距,进而有效的减少检测盲区、甚至去除检测盲区,实现提高纵向分辨率的技术效果、降低发射功率的技术效果、提高动态孔径发射效率。

【技术实现步骤摘要】
一种相控阵多焦点测量的方法、装置及存储介质
本专利技术涉及相控阵领域,尤其涉及一种相控阵多焦点测量的方法、装置及存储介质。
技术介绍
相控阵在发射时需要进行电子聚焦,使得波束聚焦在聚焦线上。在纵向深度上,焦深随深度增加而增大,但是纵向分辨率则与焦深成反比。由于传统的多焦点发射中,相邻两个焦点的间距都是固定的,使得相邻两个焦点间存在的盲区也是固定,从而造成动态孔径发射效率不高、不同深度的成像分辨率不均匀的问题。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种相控阵多焦点测量的方法、装置及存储介质,用以解决现有技术中存在相控阵在发射时动态孔径发射效率不高、不同深度的成像分辨率不均匀的问题。第一方面,为解决上述技术问题,本专利技术实施例提供一种相控阵多焦点测量的方法,该方法包括:用最大的焦点间距对选定聚焦线进行多焦点遍历发射聚焦;根据检测目标对应的回波数据范围确定所述检测目标在所述选定聚焦线上对应的目标区域;将所述选定聚焦线划分为多个连续区域,并用不同的焦点间距对不同连续区域同时进行多焦点发射聚焦;本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种相控阵多焦点发射的方法,其特征在于,包括:/n用最大的焦点间距对选定聚焦线进行多焦点遍历发射聚焦;/n根据检测目标对应的回波数据范围确定所述检测目标在所述选定聚焦线上对应的目标区域;/n将所述选定聚焦线划分为多个连续区域,并用不同的焦点间距对不同连续区域同时进行多焦点发射聚焦;其中,所述目标区域位于一个连续区域中,所述一个连续区域对应的焦点间距最小。/n

【技术特征摘要】
1.一种相控阵多焦点发射的方法,其特征在于,包括:
用最大的焦点间距对选定聚焦线进行多焦点遍历发射聚焦;
根据检测目标对应的回波数据范围确定所述检测目标在所述选定聚焦线上对应的目标区域;
将所述选定聚焦线划分为多个连续区域,并用不同的焦点间距对不同连续区域同时进行多焦点发射聚焦;其中,所述目标区域位于一个连续区域中,所述一个连续区域对应的焦点间距最小。


2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,将所述选定聚焦线划分为多个连续区域,包括:
将所述选定聚焦线划分为第一连续区域和第二连续区域;其中,所述第一连续区域包含所述目标区域,所述第二连续区域不包含所述目标区域,且远离所述相控阵。


3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,用不同的焦点间距对不同连续区域同时进行多焦点发射聚焦,包括:
用第一焦点间距对所述第一连续区域进行多焦点发射聚焦;
同时用第二焦点间距对所述第二连续区域进行多焦点发射聚焦。


4.如权利要求2所述的方法,其特征在于,将所述第一连续区域划分为包含所述目标区域的第三连续区域和不包含所述目标区域的第四连续区域,所述第四连续区域靠近所述相控阵。


5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,用不同的焦点间距对不同连续区域同时进行多焦点发射聚焦,包括:
用第一焦点间距对所述第三连续区域进行多焦点发射聚焦;
同时用第二焦点间距对所述第二连续区域进行多焦点发射聚焦;
同时用第三焦点间距对所述第四连续区域进行多焦点发射聚焦;其中所述第三焦点间距小于等于所述二焦点间距。


6.如权利要求4所述的方法,其特征在于,将所述第三连续...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨志明黄继景唐大伟欧歌
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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