基板、磁力架和磁珠吸附分离组件制造技术

本实用新型专利技术公开了基板、磁力架和磁珠吸附分离组件。其中，该基板包括：板体；磁柱容纳槽，所述磁柱容纳槽位于所述板体的上部；反应管固定槽，所述反应管固定槽位于所述板体的上部，且沿所述磁柱容纳槽周向设置，一个所述磁柱容纳槽对应至少一个所述反应管固定槽，且所述反应管固定槽与对应的所述磁柱容纳槽的距离不大于所述反应管固定槽与其它所述磁柱容纳槽的距离。该基板磁珠分离速度快，并且吸附在反应管的一侧内壁上，减少甚至避免磁珠分布在反应管底部，便于移除反应管内的液体。该基板、磁力架和磁珠吸附分离组件尤其适用于自动化液体工作站。

【技术实现步骤摘要】
基板、磁力架和磁珠吸附分离组件
本技术涉及生物装置领域，具体涉及基板、磁力架和磁珠吸附分离组件。
技术介绍
目前市场上的常规PCR板磁力架，磁铁是完全埋于反应管周边，导致磁珠吸附速度较慢，且磁珠被吸附到管的侧壁和底部，移液不完全，易导致磁珠损失。由此，现有的磁力架有待改进。
技术实现思路
本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术的一个目的在于提出一种磁力架，该磁力架通过调整基板上磁柱容纳槽和反应管固定槽的位置，使固定在反应管固定槽的反应管内的磁珠受一个方向磁场的吸引，磁珠分离速度快，并且吸附在反应管的一侧内壁上，便于移除反应管内的液体。该基板、磁力架和磁珠吸附分离组件尤其适用于自动化液体工作站，例如，型号为ANNOSTAR的自动化液体工作站。根据本技术的一个方面，本技术提供了一种基板。根据本技术的实施例，该基板包括：板体；磁柱容纳槽，所述磁柱容纳槽位于所述板体的上部；反应管固定槽，所述反应管固定槽位于所述板体的上部，且沿所述磁柱容纳槽周向设置，一个所述磁柱容纳槽对应至少一个所述反应管固定槽，且所述反应管固定槽与对应的所述磁柱容纳槽的距离不大于所述反应管固定槽与其它所述磁柱容纳槽的距离。根据本技术实施例的基板，调整基板上磁柱容纳槽和反应管固定槽的位置，反应管固定槽与对应的磁柱容纳槽的距离不大于反应管固定槽与其它磁柱容纳槽的距离，使固定在反应管固定槽的反应管内的磁珠受一个方向磁场的吸引，磁珠分离速度快，并且吸附在反应管的一侧内壁上，减少甚至避免磁珠分布在反应管底部，便于移除反应管内的液体。任选地，一个所述磁柱容纳槽对应于四个所述反应管固定槽。任选地，四个所述反应管固定槽沿所述磁柱容纳槽的周向均匀、对称分布。任选地，所述磁柱容纳槽为24个，所述反应管固定槽为96个。根据本技术的又一方面，本技术提供了一种磁力架。根据本技术的实施例，该磁力架包括：前述的基板；以及磁柱，所述磁柱的至少部分位于所述磁柱容纳槽中。根据本技术实施例的磁力架，通过调整基板上磁柱容纳槽和反应管固定槽的位置，即反应管固定槽与对应的磁柱容纳槽的距离不大于反应管固定槽与其它磁柱容纳槽的距离，使固定在反应管固定槽的反应管内的磁珠受一个方向磁场的吸引，磁珠分离速度快，并且吸附在反应管的一侧内壁上，减少甚至避免磁珠分布在反应管底部，便于移除反应管内的液体。任选地，所述磁柱的高度为4-6毫米，直径为6-10毫米。任选地，所述磁柱位于所述磁柱容纳槽内的长度与位于所述磁柱容纳槽外的长度比为1-2:1。任选地，所述基板进一步包括：围栏，所述围栏形成在基板的侧壁上。任选地，所述磁力架进一步包括：固定架，所述固定架包括：底板；栅栏，栅栏形成在所述底板的侧壁上。根据本技术的再一方面，本技术提供了一种磁珠吸附分离组件。根据本技术的实施例，该磁珠吸附分离组件包括：前述的磁力架；反应板，所述反应板包括：板体；反应管，所述反应管形成在所述板体上，所述反应管内形成样本和磁珠容纳空间。根据本技术实施例的磁珠吸附分离组件，通过调整基板上磁柱容纳槽和反应管固定槽的位置，即反应管固定槽与对应的磁柱容纳槽的距离不大于反应管固定槽与其它磁柱容纳槽的距离，使固定在反应管固定槽上的反应管内的磁珠受一个方向磁场的吸引，磁珠分离速度快，并且吸附在反应管的一侧内壁上，减少甚至避免磁珠分布在反应管底部，便于移除反应管内的液体。本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。附图说明本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1显示了根据本技术一个实施例的基板的结构示意图；图2显示了根据本技术一个实施例的磁力架的结构示意图；图3显示了根据本技术一个实施例的磁力架的仰视结构示意图；图4显示了根据本技术一个实施例的基板的侧视结构示意图；图5显示了根据本技术一个实施例的磁珠吸附分离组件的结构示意图；图6显示了根据本技术一个实施例的磁珠吸附分离组件的侧视结构示意图。具体实施方式下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术而不是要求本技术必须以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。需要说明的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。进一步地，在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。基板根据本技术的一个方面，本技术提供了一种基板。根据本技术实施例的基板，调整基板上磁柱容纳槽和反应管固定槽的位置，反应管固定槽与对应的磁柱容纳槽的距离不大于反应管固定槽与其它磁柱容纳槽的距离，使固定在反应管固定槽的反应管内的磁珠受一个方向磁场的吸引，磁珠分离速度快，并且吸附在反应管的一侧内壁上，减少甚至避免磁珠分布在反应管底部，便于移除反应管内的液体。参考图1，根据本技术的实施例，对该基板进行解释说明，该基板100包括：板体10：根据本技术的实施例，该板体10为基板的载体，在板体10上形成有磁柱容纳槽20和反应管固定槽30。磁柱容纳槽20：根据本技术的实施例，该磁柱容纳槽20位于板体10的上部，用于吸附磁珠的磁柱可移动地插设在该磁柱容纳槽20内。反应管固定槽30：根据本技术的实施例，该反应管固定槽30位于板体10的上部，且沿磁柱容纳槽20周向设置，该反应管固定槽30用于固定反应管，反应管的底部的一部分插入到反应管固定槽30内，使反应管以合适的位置固定在基板上，放置反应管位移，并且，反应管固定槽30沿磁柱容纳槽20的周向设置，使反应管沿磁柱的周向设置，以使反应管内的磁珠在磁柱的磁场下分离吸附。同时，根据本技术的实施例，一个磁柱容纳槽20对应至少一个反应管固定槽30，且反应管固定槽30与对应的磁柱容纳槽20的距离不大于反应管固定槽30与其它磁柱容纳槽20的距离。首先，当反应管固定槽30与对应的磁柱容纳槽20的距离小于反应管固定槽30与其它磁柱容纳槽20的距离时，换句话说，也就是说，一个磁柱对应至少一个反应管。也就是说，一个反应管可以受多个磁柱磁场本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板，其特征在于，包括：/n板体；/n磁柱容纳槽，所述磁柱容纳槽位于所述板体的上部；/n反应管固定槽，所述反应管固定槽位于所述板体的上部，且沿所述磁柱容纳槽周向设置，一个所述磁柱容纳槽对应至少一个所述反应管固定槽，且所述反应管固定槽与对应的所述磁柱容纳槽的距离不大于所述反应管固定槽与其它所述磁柱容纳槽的距离。/n

【技术特征摘要】
1.一种基板，其特征在于，包括：
板体；
磁柱容纳槽，所述磁柱容纳槽位于所述板体的上部；
反应管固定槽，所述反应管固定槽位于所述板体的上部，且沿所述磁柱容纳槽周向设置，一个所述磁柱容纳槽对应至少一个所述反应管固定槽，且所述反应管固定槽与对应的所述磁柱容纳槽的距离不大于所述反应管固定槽与其它所述磁柱容纳槽的距离。


2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，一个所述磁柱容纳槽对应于四个所述反应管固定槽。


3.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，四个所述反应管固定槽沿所述磁柱容纳槽的周向均匀、对称分布。


4.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述磁柱容纳槽为24个，所述反应管固定槽为96个。


5.一种磁力架，其特征在于，包括：
如权利要求1或2所述的基板；以及
磁柱，所述磁柱的至少部分位于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏永恒，蔡建岭，庄泓川，潘伟业，李志民，李大为，玄兆伶，王海良，王娟，
申请(专利权)人：安诺优达基因科技北京有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11