一种基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器制造技术

本发明专利技术公开了一种基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器。所述基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器的容器壁包括：透明容器壁，设置在所述透明容器壁的内壁上的纳米阻隔层、设置在所述透明容器壁的外壁上的第一介质层、设置在所述第一介质层上表面的第二介质层其中，所述第二介质层的折射率低于所述第一介质层的折射率。本发明专利技术将所述纳米阻隔层设置在所述透明容器内壁一侧，而将第一介质层和第二介质层设置在所述透明容器外壁一侧，克服了在纳米阻隔层上镀制多层介质膜致使该侧膜层太厚造成的微缺陷，导致的阻隔性降低的问题；所述纳米阻隔层、透明容器、第一介质层和第二介质层组成光学干涉膜，呈现出一定颜色。

【技术实现步骤摘要】
一种基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器
本专利技术涉及容器
，尤其涉及一种基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器。
技术介绍
目前，常用多层复合的方法制备高阻隔薄膜。EVOH(乙烯-乙烯醇共聚物)核心原材料价格较贵，且回收困难。铝塑复合膜镀铝薄膜难分离，同样存在回收困难的问题，所以迫切需求新型高阻隔易回收的材料。而且，高阻隔容器中镀制的膜层厚度为数百纳米，容易存在应力，导致镀层存在微缺陷，进而产生阻隔性不佳的问题。因此，现有技术还有待于改进和发展。
技术实现思路
鉴于上述现有技术的不足，本专利技术的目的在于提供一种基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器，旨在解决现有阻隔容器阻隔性不佳的问题。本专利技术提供一种基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器，其中，所述基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器的一端设置有开口；所述基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器包括：透明容器壁，设置在所述透明容器壁的内壁上采用微波等离子化学气相沉积的纳米阻隔层、设置在所述透明容器壁的外壁上采用物理气相沉积的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器，其特征在于，所述基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器的一端设置有开口；/n所述基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器包括：透明容器壁，设置在所述透明容器壁内壁上采用微波等离子化学气相沉积的纳米阻隔层、设置在所述透明容器壁外壁上采用物理气相沉积的第一介质层、设置在所述第一介质层上表面采用物理气相沉积的第二介质层，其中，所述第二介质层的折射率低于所述第一介质层的折射率；/n所述纳米阻隔层、透明容器壁、第一介质层和第二介质层组成光学干涉膜，呈现出颜色。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器，其特征在于，所述基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器的一端设置有开口；
所述基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器包括：透明容器壁，设置在所述透明容器壁内壁上采用微波等离子化学气相沉积的纳米阻隔层、设置在所述透明容器壁外壁上采用物理气相沉积的第一介质层、设置在所述第一介质层上表面采用物理气相沉积的第二介质层，其中，所述第二介质层的折射率低于所述第一介质层的折射率；
所述纳米阻隔层、透明容器壁、第一介质层和第二介质层组成光学干涉膜，呈现出颜色。


2.根据权利要求1所述的基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器，其特征在于，所述透明容器壁为聚酯透明容器壁、聚丙烯透明容器壁、聚甲基丙烯酸甲酯透明容器壁中的一种。


3.根据权利要求1所述的基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器，其特征在于，所述纳米阻隔层为氧化锆纳米阻隔层，氧化钛纳米阻隔层，氧化钽纳米阻隔层中的一种。


4.根据权利要求1所述的基于微波等离子体化学气相沉积的阻隔容器，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙耀明，彭晓华，陈寿，王鑫，李彦灼，刘晓东，江俊灵，肖艳苹，
申请(专利权)人：深圳市八六三新材料技术有限责任公司，
类型：发明
国别省市：广东;44