本实用新型专利技术公开了一种半导体设备的器件清洗装置；属于设备清洗技术领域；其技术要点包括一种半导体设备的器件清洗装置，包括底座和清洗罩，底座的两侧表壁共同通过轴承转动连接有第一螺纹杆，第一螺纹杆的另一端延伸至底座的外部并固定连接有第二皮带轮，第一螺纹杆上螺纹连接有螺纹套，螺纹套的上表壁固定连接有固定杆，本实用新型专利技术螺纹套通过固定杆带动U型支撑座实现了水平移动，将夹持装置移动至清洗罩的左侧，使超声波发射器对晶片进行清洗，从而实现二次清洗，能够有效的的对半导体设备的器件进行清洗，第二夹板可以水平移动，可以适用于不同大小的晶片。
【技术实现步骤摘要】
一种半导体设备的器件清洗装置
：本技术涉及设备清洗
，特别涉及一种半导体设备的器件清洗装置。
技术介绍
：半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的。今日大部分的电子产品，如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关联，半导体产品在制造的过程中会沾染环境中的各种污染物，粘附在半导体产品表面的污染物会严重影响器件的性能、可靠性、和成品率，因此在半导体制造的各个工艺结束后一般要对其进行清洗，保证半导体产品的质量。随着电子器件的小型化和高集成度的特征，半导体器件上残留杂质颗粒的数量和直径越来越小，普通的清洗方式一次性清洗的不彻底，使得清洗完之后会有一些细微的颗粒依然附着在晶片表面，在安装时会导致晶片损坏甚至报废，而反复清洗会大大减少清洗的效率。因此，专利技术一种一种半导体设备的器件清洗装置来解决上述问题很有必要。
技术实现思路
：本技术的目的在于提供一种半导体设备的器件清洗装置，以解决现有技术中清洗不干净和清洗效率低的不足。本技术由如下技术方案实施：一种半导体设备的器件清洗装置，一种半导体设备的器件清洗装置，包括底座和清洗罩，所述底座的两侧表壁共同通过轴承转动连接有第一螺纹杆；所述第一螺纹杆的另一端延伸至底座的外部并固定连接有第二皮带轮，所述第一螺纹杆上螺纹连接有螺纹套；所述螺纹套的上表壁固定连接有固定杆，所述底座的上表壁开设有与固定杆相对应的条形开口，所述固定杆的顶端固定连接有底板，所述底板的上表壁固定连接有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的顶部固定连接有夹持机构；所述清洗罩的顶部设置有清洗机构。优选的，所述夹持机构包括与电动伸缩杆顶部固定连接的U型支撑座，所述U型支撑座的两个竖直部共同通过轴承转动连接有第二螺纹杆，所述第二螺纹杆的表壁螺纹连接有第二夹板，所述U型支撑座的上表壁左侧固定连接有与第二夹板相对应的第一夹板，所述第二夹板的下表壁固定连接有滑动块，所述U型支撑座的上表壁开设有与滑动块匹配连接的滑槽。优选的，所述第二螺纹杆的左端延伸至U型支撑座的外部并固定连接有转盘。优选的，所述第一夹板和第二夹板的上表壁均开设有多个限位槽。优选的，所述储液箱的顶部固定连通有进液管，且进液管的顶端螺纹连接第二箱盖。优选的，所述清洗机构包括与清洗罩相对应的第一箱盖，所述清洗罩上表面的右侧开设有开口，且开口的左侧通过转轴与第一箱盖的侧壁转动连接，所述第一箱盖的内部固定连接有喷水管，所述喷水管的底部固定连通有多个喷头，所述清洗罩上表壁的左侧固定连接有储液箱，所述清洗罩上表壁的中部固定连接有水泵，所述水泵的两端均固定连通有水管，其中一个所述水管与储液箱连通，另一个所述水管穿入第一箱盖的内腔并与喷水管的顶部固定连通，所述清洗罩的顶部内壁和左侧内壁上均固定连接有超声波发射器，所述底座的下表壁固定连通有排污管，且排污管上固定连通有阀门。优选的，所述底座下表壁的四脚处均固定连接有对称分布的支撑腿。本技术的优点：1、通过增加储液箱、水泵、水管和喷头，水泵将储液箱中的清洗液抽入喷水管，并通过喷头喷出，对晶片进行清洗，电机输出轴上的第一皮带轮通过皮带带动第一螺纹杆转动，第一螺纹杆转动带动螺纹套移动，螺纹套通过固定杆带动U型支撑座实现了水平移动，将夹持装置移动至清洗罩的左侧，使超声波发射器对晶片进行清洗，从而实现二次清洗，能够有效的的对半导体设备的器件进行清洗。2、通过设置第二螺纹杆、夹板和转盘，转动转盘带动第二螺纹杆转动，由于第二夹板与第二螺纹杆使螺纹连接的，所以第二螺纹杆的转动使得第二夹板水平移动，使得第二夹板与第一夹板夹紧，使得晶片可以插入第一夹板和第二夹板的限位槽中，第二夹板可以水平移动，可以适用于不同大小的晶片。附图说明：为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术的整体结构示意图。图2为本技术的底座剖示图。图3为本技术U型支撑座侧面结构示意图。图4位本技术U型支撑座正面结构剖视图。图中：1、底座；2、清洗罩；3、第一螺纹杆；4、螺纹套；5、固定杆；6、底板；7、电动伸缩杆；8、U型支撑座；9、储液箱；10、水泵；11、水管；12、第一箱盖；13、喷水管；14、喷头；15、超声波发射器；16、第二皮带轮；17、第一皮带轮；18、皮带；19、电机；20、防护箱；21、排污管；22、阀门；23、支撑腿；24、进液管；25、条形开口；27、第一夹板；28、第二螺纹杆；29、第二夹板；30、第二箱盖；31、转盘。具体实施方式：下面结合附图进一步详细描述本技术的技术方案，但本技术的保护范围不局限于以下所述。本说明书(包括任何附加权利要求-摘要和附图)中公开的任一特征，除非特别叙述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述，每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚-完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在对实施例进行描述之前，需要对一些必要的术语进行解释。例如：若本申请中出现使用“第一”-“第二”等术语来描述各种元件，但是这些元件不应当由这些术语所限制。这些术语仅用来区分一个元件和另一个元件。因此，下文所讨论的“第一”元件也可以被称为“第二”元件而不偏离本技术的教导。应当理解的是，若提及一元件“连接”或者“联接”到另一元件时，其可以直接地连接或直接地联接到另一元件或者也可以存在中间元件。相反地，当提及一元件“直接地连接”或“直接地联接”到另一元件时，则不存在中间元件。在本申请中出现的各种术语仅仅用于描述具体的实施方式的目的而无意作为对本技术的限定，除非上下文另外清楚地指出，否则单数形式意图也包括复数形式。当在本说明书中使用术语“包括”和/或“包括有”时，这些术语指明了所述特征-整体-步骤-操作-元件和/或部件的存在，但是也不排除一个以上其他特征-整体-步骤-操作-元件-部件和/或其群组的存在和/或附加。本技术提供了如图1-3所示的一种半导体设备的器件清洗装置，一种半导体设备的器件清洗装置，包括底座1和清洗罩2，底座1的两侧表壁共同通过轴承转动连接有第一螺纹杆3；第一螺纹杆3的另一端延伸至底座1的外部并固定连接有第二皮带轮16，第一螺纹杆3上螺纹连接有螺纹套4；本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种半导体设备的器件清洗装置，包括底座(1)和清洗罩(2)，其特征在于，所述底座(1)的两侧表壁共同通过轴承转动连接有第一螺纹杆(3)；/n所述第一螺纹杆(3)的另一端延伸至底座(1)的外部并固定连接有第二皮带轮(16)，所述第一螺纹杆(3)上螺纹连接有螺纹套(4)；/n所述螺纹套(4)的上表壁固定连接有固定杆(5)，所述底座(1)的上表壁开设有与固定杆(5)相对应的条形开口(25)，所述固定杆(5)的顶端固定连接有底板(6)，所述底板(6)的上表壁固定连接有电动伸缩杆(7)，所述电动伸缩杆(7)的顶部固定连接有夹持机构；/n所述清洗罩(2)的顶部设置有清洗机构。/n
【技术特征摘要】
1.一种半导体设备的器件清洗装置，包括底座(1)和清洗罩(2)，其特征在于，所述底座(1)的两侧表壁共同通过轴承转动连接有第一螺纹杆(3)；
所述第一螺纹杆(3)的另一端延伸至底座(1)的外部并固定连接有第二皮带轮(16)，所述第一螺纹杆(3)上螺纹连接有螺纹套(4)；
所述螺纹套(4)的上表壁固定连接有固定杆(5)，所述底座(1)的上表壁开设有与固定杆(5)相对应的条形开口(25)，所述固定杆(5)的顶端固定连接有底板(6)，所述底板(6)的上表壁固定连接有电动伸缩杆(7)，所述电动伸缩杆(7)的顶部固定连接有夹持机构；
所述清洗罩(2)的顶部设置有清洗机构。
2.根据权利要求1所述的一种半导体设备的器件清洗装置，其特征在于，所述夹持机构包括与电动伸缩杆(7)顶部固定连接的U型支撑座(8)，所述U型支撑座(8)的两个竖直部共同通过轴承转动连接有第二螺纹杆(28)，所述第二螺纹杆(28)的表壁螺纹连接有第二夹板(29)，所述U型支撑座(8)的上表壁左侧固定连接有与第二夹板(29)相对应的第一夹板(27)，所述第二夹板(29)的下表壁固定连接有滑动块，所述U型支撑座(8)的上表壁开设有与滑动块匹配连接的滑槽。
3.根据权利要求2所述的一种半导体设备的器件清洗装置，其特征在于，所述第二螺纹杆(28)的左端延伸至U型支撑座(8)的外部并固定连接有转盘(31)。
...
【专利技术属性】
技术研发人员：韩猛，马国乾，
申请(专利权)人：武汉越源环保科技有限公司，
类型：新型
国别省市：湖北;42
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