一种光催化产氢稳定性高的黑磷烯粉末及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种光催化产氢稳定性高的黑磷烯粉末及其制备方法，属于黑磷烯粉末制备技术领域。该制备方法如下：配置饱和NaOH/NMP溶液；称取清洗后的黑磷块体；将配置的饱和NaOH/NMP缓慢滴加进配置的饱和NaOH/NMP溶液中，边滴加边研磨，控制总的研磨时间为10‑30min，获得黑磷和饱和NaOH/NMP溶液的混合溶液；对上述混合溶液进行超声处理，超声处理的条件为：超声功率为200‑480W，超声时间为3‑8h，且保持超声温度在30℃以内；离心处理得光催化产氢稳定性高的黑磷烯粉末。本发明专利技术的制备方法使用饱和NaOH/NMP溶液作为剥离溶剂，通过超声剥离的方法，得到不同尺寸的催化产氢稳定性高的黑磷烯粉末。

【技术实现步骤摘要】
一种光催化产氢稳定性高的黑磷烯粉末及其制备方法
本专利技术涉及黑磷烯制备
，具体涉及一种光催化产氢稳定性高的黑磷烯粉末及其制备方法。
技术介绍
黑磷，磷原子与其它三个磷原子成键之后，磷仍有一对自由的孤对电子，比较活泼且单层黑磷是zigzag结构，共价键键角为102°；该孤对电子容易被氧分子夺走，从而造成外层黑磷的氧化，而在有水存在的情况下，表面生成的氧化磷会迅速与水反应生成磷酸而降解掉，这样暴露出来的黑磷又会继续被氧化进而降解，黑磷的稳定性是一个难题。半导体光催化剂的关键是价带、导带的能级和带隙的大小，导带最小值(CBM)应该比H+/H2氧化还原电位更负(0V)，价带最大值(VBM)比O2/H2O氧化还原电势(1.23V)更正。因此，光催化剂的带隙应大于1.23eV。黑磷烯粉末因其具有二维层状结构、可调的带隙宽度、高空穴迁移率、能吸收紫外到近红外光的特性，磷烯在沿a轴7％拉伸应变下的带隙为1.76eV，在沿b轴5％拉伸应变下的带隙为1.82eV。这些带隙位于可见光波长范围内，能够有效地捕获可见光。由于磷烯在一定的PH条件下具有合适本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光催化产氢稳定性高的黑磷烯粉末的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS1、配置饱和NaOH/NMP溶液；/nS2、称取清洗后的黑磷块体；/nS3、将配置的饱和NaOH/NMP缓慢滴加进配置的饱和NaOH/NMP溶液中，边滴加边研磨，控制总的研磨时间为10-30min，获得黑磷和饱和NaOH/NMP溶液的混合溶液；/nS4、对上述混合溶液进行超声处理，超声处理的条件为：超声功率为200-480W，超声时间为3-8h，且保持超声温度在30℃以内；/nS5、离心处理得光催化产氢稳定性高的黑磷烯粉末。/n

【技术特征摘要】
1.一种光催化产氢稳定性高的黑磷烯粉末的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、配置饱和NaOH/NMP溶液；
S2、称取清洗后的黑磷块体；
S3、将配置的饱和NaOH/NMP缓慢滴加进配置的饱和NaOH/NMP溶液中，边滴加边研磨，控制总的研磨时间为10-30min，获得黑磷和饱和NaOH/NMP溶液的混合溶液；
S4、对上述混合溶液进行超声处理，超声处理的条件为：超声功率为200-480W，超声时间为3-8h，且保持超声温度在30℃以内；
S5、离心处理得光催化产氢稳定性高的黑磷烯粉末。


2.如权利要求1所述的光催化产氢稳定性高的黑磷烯粉末的制备方法，其特征在于，所述离心处理的条件为：先将超声处理后的黑磷和饱和NaOH/NMP溶液的混合溶液在3000-5000rpm下离心10-30min，之后将3000-5000rpm离心...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩斌，席婷，楚阳阳，黄洛，魏宇，马淑芳，许并社，
申请(专利权)人：陕西科技大学，
类型：发明
国别省市：陕西;61