一种红磷基半导体抗菌光催化剂及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种红磷基半导体抗菌光催化剂及其制备方法，分别采用高温焙烧和研磨两种工艺将红磷与半导体，如氧化钛、氧化锌、氧化铁、氧化钽、氧化钨、钒酸铋、钨酸铋、钼酸铋、铁酸铋、铁酸锌、氮化碳等，混合均匀，形成红磷/半导体复合光催化剂。不仅使得复合材料的光谱吸收范围拓展到整个可见光区域从而提高光学吸收，而且会促进光生电荷的有效分离和传输，从而提升材料的光催化抗菌性能，另外，制备方法简单，易于工业化。

A red phosphorus semiconductor antibacterial photocatalyst and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种红磷基半导体抗菌光催化剂及其制备方法
本专利技术属于抗菌材料制备和应用领域，特别涉及一种红磷基半导体抗菌光催化剂及其制备方法。
技术介绍
随着社会的快速发展，人们的居住环境中(比如引用水和空气)存在着大量细菌、真菌等有害微生物，有害微生物的繁殖会严重影响身体健康。如今，新兴的光催化杀菌技术已经逐渐取代了传统的紫外线、氯化物或臭氧消毒等净化技术。研究表明，光催化抗菌材料不仅具有良好的杀菌、抗菌性能，还可以杀灭各类微生物，而且对环境不会造成二次污染。因此，抗菌光催化剂在在水体净化和空气净化领域具有很好的应用前景。目前，锐钛矿TiO2由于价廉易得、无毒无害、化学性质稳定、抗光腐蚀性强，是已知应用最为广泛的光催化抗菌材料。然而其较宽的光学带隙、光生电荷易于复合等缺点，导致其光催化活性较低，从而制约着其在光催化抗菌的实际应用。因此如何提高对光的利用效率，促进电荷分离，构筑具有可见光响应的半导体光催化剂，将更具有实际应用价值。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于，针对现有技术的缺点，提供一种红磷基半导体抗菌光催化剂及其制本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种红磷基半导体抗菌光催化剂的制备方法，其特征在于，具体为：/n1)球磨法制备红磷/半导体复合光催化剂：取一定质量的半导体和红磷于研钵中研磨均匀，然后将混合物置于球磨罐内，氩气或者氮气保护气氛下，于300-600转/min转速下球磨2～24h，即可制得红磷/半导体复合光催化剂A，其中，半导体和红磷的质量比为(1：0.1)～(1：0.5)；/n或2)石英管真空高温焙烧法制备红磷/半导体复合光催化剂：取一定质量的半导体和红磷于研钵中研磨均匀，然后将混合物置于石英管中，抽真空后密封石英管，于400～800℃下焙烧2～5h，即可制得红磷/半导体复合光催化剂B，其中，半导体和红磷的质量比为(1：0....

【技术特征摘要】
1.一种红磷基半导体抗菌光催化剂的制备方法，其特征在于，具体为：
1)球磨法制备红磷/半导体复合光催化剂：取一定质量的半导体和红磷于研钵中研磨均匀，然后将混合物置于球磨罐内，氩气或者氮气保护气氛下，于300-600转/min转速下球磨2～24h，即可制得红磷/半导体复合光催化剂A，其中，半导体和红磷的质量比为(1：0.1)～(1：0.5)；
或2)石英管真空高温焙烧法制备红磷/半导体复合光催化剂：取一定质量的半导体和红...

【专利技术属性】
技术研发人员：王晓东，
申请(专利权)人：青岛旭晟东阳新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37