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双模静电超声传感器制造技术

技术编号:2655563 阅读:254 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种双模静电超声传感器,也称为双模电容超声传感器。它是由许多子传感器在同一平面上排列构成的阵列。子传感器具有典型的膜片-气隙结构,其振动膜片作为活动电极板,背板作为固定电极板,构成电容器。其特征是子传感器的振动模片、侧壁和背板围成一个密闭腔体,密闭腔体内填充有气体。它可以是常规机械加工的,也可以是微加工的。本实用新型专利技术可以有效工作在两个共振频率,具有两个工作模式。较之现有的单模式传感器,双模静电超声传感器可形成更宽的带宽,更大的动态范围,更高的声发射功率和声接受灵敏度。这种传感器可应用于机器人定位、导航,液面位置和涂层厚度测量,无损检测、水声和生物医学超声成像。(*该技术在2014年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及传感器
的一种静电超声传感器。静电超声传感器也常称为电容超声传感器。它可以是常规精密机械加工的,也可以是微加工的。
技术介绍
静电超声传感器对于超声检测技术具有重要意义。静电超声传感器是由各子传感器以一定规律排列而形成的子传感器阵列,每个子传感器是由振动膜片和它下面的气隙形成的腔体构成。已有技术中,每一子传感器的腔体不是独立密闭空间,如常规机械加工制作的传感器,其相邻子传感器在侧壁的顶部互相连通。微加工传感器的相邻腔体虽已分隔开,不相连通,但是它的膜片上有开孔,或者将气隙抽成真空。所有这些结构形式的超声传感器都只有一个可以利用的共振频率,即基频,传感器就工作在这个共振频率范围,因而仅有一个工作模式。近十多年来发展的微加工的线阵和面阵硅超声成像传感器仍然是如此,工作在基频,可称为“单模工作模式”。近年来,又先后发展了在基频发射声波,二次谐波的能量成像的“谐波成像模式”,和在基频的2/3处发射、4/3处接收的“准优化模式”,但由于仅有一个有效的基频,因而对于超声成像来说,仍然受到带宽和谐波能量不足的限制。
技术实现思路
本技术是为避免上述现有技术所存在的不足之处,提出一种具本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双模静电超声传感器,它是由各子传感器在同一平面上排列成的子传感器阵列,各子传感器相互并联,而每个子传感器由作为活动电极板的振动膜片和固定电极板构成一个电容器,其特征是:子传感器的振动模片、侧壁和背板围成一个密闭腔体,密闭腔体内填充有气体。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:葛立峰
申请(专利权)人:葛立峰
类型:实用新型
国别省市:34[中国|安徽]

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