【技术实现步骤摘要】
一种嵌入式铂电偶传感器
本专利技术涉及半导体元件制造
,具体涉及一种在半导体衬底上的嵌入式铂电偶传感器。
技术介绍
热电偶作为主要测温手段,用途十分广泛,铂导体的电阻值随温度变化而变化,通过测量其电阻值推算出被测物体的温度,这就是电阻温度传感器的工作原理。铂电偶传感器是利用铂电阻的阻值随温度变化而变化、并呈一定函数关系的特性来进行测温。铂电偶的测量精度在±1℃范围内,但是其准确度不高,尤其是衬底或结合部件具有相应的热阻效应。
技术实现思路
基于解决上述问题,本专利技术提供了一种嵌入式铂电偶传感器,其包括:衬底,所述衬底包括相对的上表面和下表面;第一N阱,形成于所述衬底的上表面;第一P阱,形成于所述第一N阱内,且所述第一P阱的深度小于所述第一N阱的深度;凹槽,形成在所述第一P阱内;铂电偶,形成在所述凹槽内且嵌入在所述衬底中。进一步的,所述衬底为硅衬底,其为P型轻掺杂。进一步的,所述衬底接地。进一步的,还包括介于所述第一P阱域所述铂电偶之间 ...
【技术保护点】
1.一种嵌入式铂电偶传感器,其包括:/n衬底,所述衬底包括相对的上表面和下表面;/n第一N阱,形成于所述衬底的上表面;/n第一P阱,形成于所述第一N阱内,且所述第一P阱的深度小于所述第一N阱的深度;/n凹槽,形成在所述第一P阱内;/n铂电偶,形成在所述凹槽内且嵌入在所述衬底中。/n
【技术特征摘要】
1.一种嵌入式铂电偶传感器,其包括:
衬底,所述衬底包括相对的上表面和下表面;
第一N阱,形成于所述衬底的上表面;
第一P阱,形成于所述第一N阱内,且所述第一P阱的深度小于所述第一N阱的深度;
凹槽,形成在所述第一P阱内;
铂电偶,形成在所述凹槽内且嵌入在所述衬底中。
2.根据权利要求1所述的嵌入式铂电偶传感器,其特征在于,所述衬底为硅衬底,其为P型轻掺杂。
3.根据权利要求2所述的嵌入式铂电偶传感器,其特征在于,所述衬底接地。
4.根据权利要求2所述的嵌入式铂电偶传感器,其特征在于,还包括介于所述第一P阱域所述铂电偶之间的绝缘层,所述绝缘层为氮化硅。
5.根据权利要求1所述的嵌入式铂电偶传感器,其特征在于,所述铂电偶加载第一电压V1,所述第一N阱和第一P阱之间加载第二电压V2,其中,V1与V2呈线性关系。
6.根据权利要求5所述的嵌入式铂电偶传感器,其特征在于,所述铂电偶为均匀线性结构,其横截面积为S,其长度为L,其中,V1=X·L·V2/S,X为补偿因子,...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨振洲,
申请(专利权)人:济南南知信息科技有限公司,
类型:发明
国别省市:山东;37
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