【技术实现步骤摘要】
电磁带隙组件及天线
本专利技术涉及天线
,具体而言,涉及一种电磁带隙组件及天线。
技术介绍
传统的电磁带隙(ElectromagneticBandGap,EBG)结构,为了建立LC回路使得结构在工作频点谐振,常采用蘑菇型结构,即金属和金属之间的缝隙形成电容,金属接地形成电感。蘑菇型结构的接地孔对性能有极大的影响,且接地孔在印制电路板(PrintedCircuitBoard,PCB)压合工艺中会带来加工难度。还有一些不采用接地孔的EBG结构,其实现通常采用金属本身自带的电感和电容正常工作,但工作带宽窄,谐振频率比蘑菇型结构高导致尺寸较大。
技术实现思路
本专利技术的目的包括,例如,提供了一种电磁带隙组件及天线,其能够降低现有的电磁带隙组件用于PCB压合时工艺难度,提高工作带宽。本专利技术采用的技术方案如下:第一方面,本专利技术实施例提供一种电磁带隙组件,所述电磁带隙组件包括:第一介质层、第二介质层、第一金属片及第二金属片;所述第一介质层与所述第二介质层层叠设置;所述第一介质层包括背离所 ...
【技术保护点】
1.一种电磁带隙组件,其特征在于,所述电磁带隙组件包括:第一介质层、第二介质层、第一金属片及第二金属片;/n所述第一介质层与所述第二介质层层叠设置;/n所述第一介质层包括背离所述第二介质层的第一介质层第一表面;/n所述第二介质层包括背离所述第一介质层的第二介质层第二表面;/n所述第二金属片设置于所述第二介质层第二表面,所述第二金属片接地;/n所述第一金属片设置于所述第一介质层第一表面;/n所述第一介质层内设置有贯穿所述第一介质层的金属孔,所述金属孔的一端与所述第一金属片接触,所述金属孔的另一端与所述第二介质层接触,所述第二介质层将所述金属孔与接地的所述第二金属片隔离。/n
【技术特征摘要】
1.一种电磁带隙组件,其特征在于,所述电磁带隙组件包括:第一介质层、第二介质层、第一金属片及第二金属片;
所述第一介质层与所述第二介质层层叠设置;
所述第一介质层包括背离所述第二介质层的第一介质层第一表面;
所述第二介质层包括背离所述第一介质层的第二介质层第二表面;
所述第二金属片设置于所述第二介质层第二表面,所述第二金属片接地;
所述第一金属片设置于所述第一介质层第一表面;
所述第一介质层内设置有贯穿所述第一介质层的金属孔,所述金属孔的一端与所述第一金属片接触,所述金属孔的另一端与所述第二介质层接触,所述第二介质层将所述金属孔与接地的所述第二金属片隔离。
2.根据权利要求1所述的电磁带隙组件,其特征在于,所述第一金属片包括第一侧边、第二侧边、第三侧边及第四侧边,所述第一侧边与所述第三侧边相对,所述第二侧边与所述第四侧边相对;
所述第一侧边部分延伸形成第一金属条,所述第二侧边部分延伸形成第二金属条,所述第三侧边部分延伸形成第三金属条,所述第四侧边部分延伸形成第四金属条;
所述金属条的宽度小于对应...
【专利技术属性】
技术研发人员:张琳,谷滨,郭凡玉,王新辉,罗烜,
申请(专利权)人:成都天锐星通科技有限公司,
类型:发明
国别省市:四川;51
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。