高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃制造技术

技术编号:26507762 阅读:31 留言:0更新日期:2020-11-27 15:36
本实用新型专利技术属于玻璃技术领域,尤其涉及一种高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃,包括玻璃基板、第一电介质干涉层、增透层、半导体低辐射层、合金光吸收层、电介质抗氧化层、第二电介质干涉层、第三电介质干涉层、第一复合介质保护层和第二复合介质保护层,第一电介质干涉层、增透层、半导体低辐射层、合金光吸收层、电介质抗氧化层、第二电介质干涉层、第三电介质干涉层、第一复合介质保护层和第二复合介质保护层依序叠层设置于玻璃基板上。通过各膜层的整合,达到透明玻璃材料可见光透光率大于60%,传热系数小于0.7W/m

【技术实现步骤摘要】
高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃
本技术属于玻璃
,尤其涉及一种高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃。
技术介绍
在国内建筑节能设计中,大多采用单镀膜中空玻璃来提升门窗及建筑节能性,北方严寒地区节能要求高的建筑会采用增加腔体个数及厚度来达到隔热节能目的,这对寒冷地区而言低传热的同时还需考虑冬季利用太阳中长波辐射热来降低室内采暖能耗,所以进一步降低玻璃的传热同时满足太阳红外热能总透射比gir≥0.20是建筑节能玻璃的一个重要发展方向,继而在北方严寒地区被动式低能耗建筑节能玻璃更低传热系数的复合多层镀膜LOW-E中空产品组合将受到青睐,对改变建筑节能状态具有重大意义。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃,旨在解决现有技术中的玻璃无法有效适用于寒冷地区以实现高遮阳和低传热效果的技术问题。为实现上述目的,本技术实施例提供的一种高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃,包括玻璃基板、第一电介质干涉层、增透层、半导体低辐射层、合金光吸收层、电介质抗氧化层、第二电介质干涉层、第三电介质干涉层、第一复合介质保护层和本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃,其特征在于:包括玻璃基板、第一电介质干涉层、增透层、半导体低辐射层、合金光吸收层、电介质抗氧化层、第二电介质干涉层、第三电介质干涉层、第一复合介质保护层和第二复合介质保护层,所述第一电介质干涉层、增透层、半导体低辐射层、合金光吸收层、电介质抗氧化层、第二电介质干涉层、第三电介质干涉层、第一复合介质保护层和第二复合介质保护层依序叠层设置于所述玻璃基板上。/n

【技术特征摘要】
1.一种高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃,其特征在于:包括玻璃基板、第一电介质干涉层、增透层、半导体低辐射层、合金光吸收层、电介质抗氧化层、第二电介质干涉层、第三电介质干涉层、第一复合介质保护层和第二复合介质保护层,所述第一电介质干涉层、增透层、半导体低辐射层、合金光吸收层、电介质抗氧化层、第二电介质干涉层、第三电介质干涉层、第一复合介质保护层和第二复合介质保护层依序叠层设置于所述玻璃基板上。


2.根据权利要求1所述的高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃,其特征在于:所述第一电介质干涉层为非金属氮化物纳米膜层或非金属氧化物纳米膜层。


3.根据权利要求1所述的高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃,其特征在于:所述第一电介质干涉层的厚度为20nm~40nm。


4.根据权利要求1所述的高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃,其特征在于:所述增透层为锌铝合金纳米膜层。


5.根据权利要求1所述的高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃,其特征在于:所述增透层的厚度为10nm~20nm。


6.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员:董清世张建强徐景逊
申请(专利权)人:信义玻璃天津有限公司
类型:新型
国别省市:天津;12

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