本发明专利技术公开了一种激光同步剥离晶圆的方法,其包括如下步骤:(1)将待加工的晶锭定位固定,移动激光束,使激光束的焦平面位于晶锭内部;(2)开启激光器,激光束经分光镜分束后,一部分从晶锭的正面入射形成前激光束,另一部分经过反射镜反射从晶锭背面入射形成后激光束;(3)控制前激光束和后激光束沿其各自的焦平面于晶锭上加工出改质层;(4)改质层加工完成后,对晶锭的上、下表面施加相应的反向作用力,剥离出两片厚度相同或不同的晶圆。整体加工过程操作简单,易于实现,大大节约了晶锭改质层的加工时间,加工效率高,且可针对不同的晶圆剥离厚度采用不同的激光束能量,同时实现不同厚度的晶圆剥离,灵活性高,适用范围广。
【技术实现步骤摘要】
激光同步剥离晶圆的方法
本专利技术属于半导体
,具体涉及一种激光同步剥离晶圆的方法。
技术介绍
晶圆是半导体制造领域的材料基础,而晶锭剥离技术是获得高质量晶圆片的关键。常规的金刚石线切割方式因存在加工效率低、加工工具及被加工材料损耗大等问题,难以满足大尺寸晶圆生产的需求。晶圆属于硬脆材料,激光隐形加工技术在晶锭剥离方面具有极大的应用潜力。公开号“CN106216856B”,名称为“双焦点激光加工系统及其加工方法”,其公开一种双焦点激光加工系统及其加工方法,其通过偏振片将激光束分成两束,分别在LED晶圆片横向及纵向切割道内部形成炸点,实现芯粒的切断。其主要用于沿着相互交错的切割道分离LED晶圆片,切割的断面是不规则的台阶面,台阶面的产生增大了LED芯粒的发光面积,提高了LED芯粒的发光亮度。公开号“CN102689092A”,名称为“使用双激光光束的太阳能晶圆精密加工方法及装置”,其公开一种使用双激光光束的太阳能晶圆精密加工方法及装置,其采用双激光光束对太阳能晶圆进行先后加工,激光光束的能量分别低于、高于晶圆,基于两束激光叠加的非线性效应,它们的总能量低于达到同等效果的单束激光的能量,提高了激光能量的使用效率,降低加工成本。上述两种方法虽然披露有将激光束分成两束,但是各自功能作用不同,并且不是专门应用于晶锭的剥离工序,因此,寻求一种高效对晶锭进行同步剥离晶圆的方法,对提高晶圆加工效率和良品率有非常重要的意义。
技术实现思路
针对上述的不足,本专利技术目的在于,提供一种易于实现,通过分光的方式从晶锭两侧同步加工,可同时获得两片相同或不同厚度的晶圆,大大提高了加工效率的激光同步剥离晶圆的方法。一种激光同步剥离晶圆的方法,其包括如下步骤:(1)将待加工的晶锭定位固定,移动激光束,使激光束的焦平面位于晶锭内部;(2)开启激光器,激光束经分光镜分束后,一部分从晶锭的正面入射形成前激光束,另一部分经过反射镜反射从晶锭背面入射形成后激光束;(3)控制前激光束和后激光束沿其各自的焦平面于晶锭上加工出改质层;(4)改质层加工完成后,对晶锭的上、下表面施加相应的反向作用力,从晶锭的上、下表面上分别剥离出晶圆。作为本专利技术的一种优选方案,所述步骤(1)中通过夹具将待加工的晶锭定位固定。作为本专利技术的一种优选方案,所述步骤(1)中沿晶锭的轴向方向移动激光束,使激光束的焦平面位于晶锭内部。作为本专利技术的一种优选方案,所述晶锭为硅、碳化硅、蓝宝石或氮化镓等。作为本专利技术的一种优选方案,所述步骤(4)中采用真空吸盘对晶锭的上、下表面进行吸附,同时向远离晶锭方向拉动,从晶锭的上、下表面上分别剥离出晶圆。作为本专利技术的一种优选方案,所述激光束的脉宽为200fs~10ns,波长为355nm~1064nm,能量为10μJ~300μJ,扫描速度为50mm/s~200mm/s。作为本专利技术的一种优选方案,所述步骤(4)中通过在线监测装置实时监控改质层是否加工完成,所述在线监测装置包括声发射模块及CCD系统。其中声发射模块用于监测声信号,CCD系统用于观察改质层情况,实时监测晶锭内部的改质层的形成状态。作为本专利技术的一种优选方案,从晶锭的上、下表面上剥离出的晶圆的厚度相同或不相同,所述晶圆的厚度为200μm~600μm。本专利技术的有益效果为:本专利技术激光同步剥离晶圆的方法合理采用激光束分束的方式,通过调节激光束能量,分别从晶锭的正面及反面作用于晶锭,同步形成改质层,再通过真空吸盘剥离得到晶圆,整体加工过程操作简单,易于实现,大大节约了晶锭改质层的加工时间,加工效率高,且可针对不同的晶圆剥离厚度采用不同的激光束能量,同时实现相同或不同厚度的晶圆剥离,灵活性高,适用范围广,利于广泛推广应用。下面结构附图与实施例对本专利技术作进一步说明。附图说明图1为本专利技术的加工示意图。图2为本专利技术中晶锭在加工时的结构示意图1。图3为本专利技术中晶锭在加工时的结构示意图2。图4为本专利技术中晶锭在加工时的结构示意图3。具体实施方式实施例1:本实施例提供的一种激光同步剥离晶圆的方法,参见图1和图2,将待加工的晶锭9由夹具10固定,本实施例中的晶锭9为碳化硅。沿晶锭9轴向移动激光束7、12,使得激光束7、12各自的焦平面8、11位于晶锭9的内部。开启激光器1,采用脉宽4ns、波长1030nm、能量100μJ的激光束经扩束镜2和分光镜3分束后,其中一部分激光束12经聚光镜13后从晶锭9正面入射,另一部分激光束7经过反射镜4和聚光镜6后从晶锭9背面入射,能量分别设定为50%与50%。控制激光束7、12分别以扫描速度100mm/s、150mm/s沿焦平面8、11加工出改质层15、16。参见图3,当激光束7、12作用于晶锭9内部的改质层15、16沿径向贯穿时,参见图4,采用一对真空吸盘18、5分别作用于晶锭9的上、下表面,并沿反方向拉伸,可从晶锭9上剥离得到晶圆17、14。实施例2:本实施例提供的一种激光同步剥离晶圆的方法,将待加工的晶锭9由夹具10固定,本实施例中的晶锭9为硅。沿晶锭9轴向移动激光束7与12,使得激光束7、12各自的焦平面8、11位于晶锭9的内部。开启激光器1,采用脉宽800fs、波长1064nm、能量80μJ的激光束经扩束镜2和分光镜3分束后,其中一部分激光束12经聚光镜13后从晶锭9正面入射,另一部分激光束7经过反射镜4和聚光镜6后从晶锭9背面入射,能量分别设定为30%与70%。控制激光束7、12分别以扫描速度120mm/s、170mm/s沿焦平面8、11加工出改质层15、16。当激光束7、12作用于晶锭9内部的改质层15、16沿径向贯穿时,采用一对真空吸盘18、5分别作用于晶锭9的上、下表面,并沿反方向拉伸,可从晶锭9上剥离得到晶圆17、14。实施例3:本实施例提供的一种激光同步剥离晶圆的方法,将待加工的晶锭9由夹具10固定,本实施例中的晶锭9为蓝宝石。沿晶锭9轴向移动激光束7与12,使得激光束7、12各自的焦平面8、11位于晶锭9的内部。开启激光器1,采用脉宽10ps、波长532nm、能量120μJ的激光束经扩束镜2和分光镜3分束后,其中一部分激光束12经聚光镜13后从晶锭9正面入射,另一部分激光束7经过反射镜4和聚光镜6后从晶锭9背面入射,能量分别设定为40%与60%。控制激光束7、12分别以扫描速度80mm/s、160mm/s沿焦平面8、11加工出改质层15、16。当激光束7、12作用于晶锭9内部的改质层15、16沿径向贯穿时,采用一对真空吸盘18、5分别作用于晶锭9的上、下表面,并沿反方向拉伸,可从晶锭9上剥离得到晶圆17、14。上述实施例仅为本专利技术较好的实施方式,本专利技术不能一一列举出全部的实施方式,凡采用上述实施例之一的技术方案,或根据上述实施例所做的等同变化,均在本专利技术保护范围内。本专利技术激光同步剥离晶圆的方法合理采用激光束分束的方式,通过调节激光束能量本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种激光同步剥离晶圆的方法,其特征在于,其包括如下步骤:/n(1)将待加工的晶锭定位固定,移动激光束,使激光束的焦平面位于晶锭内部;/n(2)开启激光器,激光束经分光镜分束后,一部分从晶锭的正面入射形成前激光束,另一部分经过反射镜反射从晶锭背面入射形成后激光束;/n(3)控制前激光束和后激光束沿其各自的焦平面于晶锭上加工出改质层;/n(4)改质层加工完成后,对晶锭的上、下表面施加相应的反向作用力,从晶锭的上、下表面上分别剥离出晶圆。/n
【技术特征摘要】
1.一种激光同步剥离晶圆的方法,其特征在于,其包括如下步骤:
(1)将待加工的晶锭定位固定,移动激光束,使激光束的焦平面位于晶锭内部;
(2)开启激光器,激光束经分光镜分束后,一部分从晶锭的正面入射形成前激光束,另一部分经过反射镜反射从晶锭背面入射形成后激光束;
(3)控制前激光束和后激光束沿其各自的焦平面于晶锭上加工出改质层;
(4)改质层加工完成后,对晶锭的上、下表面施加相应的反向作用力,从晶锭的上、下表面上分别剥离出晶圆。
2.根据权利要求1所述的激光同步剥离晶圆的方法,其特征在于,所述步骤(1)中通过夹具将待加工的晶锭定位固定。
3.根据权利要求1所述的激光同步剥离晶圆的方法,其特征在于,所述步骤(1)中沿晶锭的轴向方向移动激光束,使激光束的焦平面位于晶锭内部。
4.根据权利要求1所述的激光同步剥离晶圆的方法,其特征在于,所述晶锭为硅、碳化硅、蓝宝石或氮化镓。
5.根据权利要求1所述的激光同步剥离晶圆的方法,其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员:王宏建,赵卫,何自坚,陈湘文,朱建海,
申请(专利权)人:松山湖材料实验室,
类型:发明
国别省市:广东;44
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