聚焦深度测量方法和测量装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及光学成像技术领域，本发明专利技术解决了聚焦深度测量技术中图像采集效率较低的问题，提供一种聚焦深度测量方法和测量装置。该深度测量方法包括以下步骤：液晶透镜接收第一驱动电压；将液晶透镜接收的第一驱动电压切换为第二驱动电压；响应于第一驱动电压至第二驱动电压的切换，液晶透镜连续变焦；在液晶透镜变焦的过程中采集同一场景中不同对焦物的一系列图像；采集各幅图像中每个像素点的对焦评价值；采集每个像素点的场景深度。本发明专利技术发现了液晶透镜的动态变焦特性，其采集过程中液晶透镜分别呈透镜状态且成像像差均小于0.1，本发明专利技术克服了液晶透镜无法动态连续变焦的技术偏见，因此无须等待液晶透镜完成变焦后采集图像，从而提高采集效率。

【技术实现步骤摘要】
聚焦深度测量方法和测量装置
本专利技术属于光学成像
，具体是一种基于液晶透镜动态变焦特性的聚焦深度测量方法和测量装置。
技术介绍
通过电控液晶透镜变焦的研究很多，例如：发表于2009年6月1日的论文“基于双折射原理共焦系统超分辨性能及轴向扫描技术研究”(现有技术1)，其通过改变电压Vc为不同的值，研究不同驱动电压下液晶透镜的焦距变化。发表于2016年5月1日的论文“石墨烯基液晶微透镜阵列的制作与成像探测研究”(现有技术2)，其选取了多组不同固定电压值观察并测量微透镜阵列的焦距变化情况。发表于2017年3月10日的论文“快速响应弯曲排列液晶透镜的研究”(现有技术3)，其测量焦距的方法为：在测量焦距过程中，通过在滑道铁轨上移动白屏的位置来寻找液晶透镜盒的焦点，若当焦点落在屏幕上时，出射光由于会聚作用，在白屏上光斑中也会形成一个小圆亮点，此时再测量白屏与液晶透镜盒之间的距离，该距离即为测得的焦距，然后通过改变不同的电压，在不同电压下，滑动白屏测量不同电压下液晶盒所对应的焦距。通过现有技术1至现有技术3可以看出现有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于液晶透镜动态变焦特性的聚焦深度测量方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS1、液晶透镜接收第一驱动电压；/nS2、将所述液晶透镜接收的所述第一驱动电压切换为第二驱动电压；/nS3、响应于所述第一驱动电压至第二驱动电压的切换，液晶透镜连续变焦；/nS4、在液晶透镜连续变焦的过程中对同一场景采集至少两幅图像；/nS5、采集各幅图像中每个像素点的对焦评价值；/nS6、通过DFF算法采集每个像素点的场景深度；/n其中，液晶透镜在第一驱动电压和第二驱动电压时，液晶透镜分别呈透镜状态。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于液晶透镜动态变焦特性的聚焦深度测量方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、液晶透镜接收第一驱动电压；
S2、将所述液晶透镜接收的所述第一驱动电压切换为第二驱动电压；
S3、响应于所述第一驱动电压至第二驱动电压的切换，液晶透镜连续变焦；
S4、在液晶透镜连续变焦的过程中对同一场景采集至少两幅图像；
S5、采集各幅图像中每个像素点的对焦评价值；
S6、通过DFF算法采集每个像素点的场景深度；
其中，液晶透镜在第一驱动电压和第二驱动电压时，液晶透镜分别呈透镜状态。


2.根据权利要求1所述的基于液晶透镜动态变焦特性的聚焦深度测量方法，其特征在于，所述步骤S4中采集的各幅图像的放大率相同。


3.根据权利要求1或2所述的基于液晶透镜动态变焦特性的聚焦深度测量方法，其特征在于，所述步骤S4具体为：在所述液晶透镜连续变焦的过程中按图像采集频率f对同一场景采集至少两幅图像，且各幅图像的放大率相同。


4.根据权利要求3所述的基于液晶透镜动态变焦特性的聚焦深度测量方法，其特征在于，所述图像采集频率f≥15Hz。


5.根据权利要求3所述的基于液晶透镜动态变焦特性的聚焦深度测量方法，其特征在于，所述步骤S5为计算各幅图像中每个像素点x方向与y方向的二阶导数绝对值之和作为该像素点的对焦评价值。


6.根据权利要求5所述的基于液晶透镜动态变焦特性的聚焦深度测量方法，其特征在于，所述步骤S5为通过MLAP算子计算各幅图像中每个像素点x方向与y方向的二阶导数绝对值之和作为该像...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶茂，陈晓西，郑力铭，张亚磊，
申请(专利权)人：电子科技大学，
类型：发明
国别省市：四川;51