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聚焦深度测量方法和测量装置制造方法及图纸
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文档序号:26477777
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本发明涉及光学成像技术领域,本发明解决了聚焦深度测量技术中图像采集效率较低的问题,提供一种聚焦深度测量方法和测量装置。该深度测量方法包括以下步骤:液晶透镜接收第一驱动电压;将液晶透镜接收的第一驱动电压切换为第二驱动电压;响应于第一驱动电压至...
该专利属于电子科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过电子科技大学授权不得商用。
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