真空开闭阀制造技术

本发明专利技术的目的在于提供一种能够抑制阀芯进行动作时产生的振动的真空开闭阀。本发明专利技术的真空开闭阀(30)配设在真空腔室(11)与真空泵(15)之间，通过提升阀芯(33A)的开闭动作来进行真空腔室的排气，具备真空压力控制装置(70)和伺服阀(60)，真空压力控制装置进行指定提升阀芯的开度的开度指示，伺服阀使阀芯动作到与开度指示所指定的开度相对应的位置，该真空开闭阀中，伺服阀进行使提升阀芯的位置在规定时间内从第一位置(开度X1)动作到第二位置(开度X2)的开度控制用的开度指示是指定与第一位置与第二位置之间的第三位置(开度X3)相对应的开度，之后从与第三位置相对应的开度逐渐变动到与第二位置相对应的开度。

【技术实现步骤摘要】
真空开闭阀
本专利技术涉及真空开闭阀，其配设在真空腔室与真空泵之间，通过阀芯的开闭动作来进行真空腔室的排气，具备控制装置和控制阀，所述控制装置进行指定阀芯的开度的开度指示，所述控制阀根据开度指示使阀芯动作到与指定的开度相对应的位置。
技术介绍
在半导体制造装置中，在配置有晶圆的真空腔室与真空泵之间配设有真空开闭阀，进行真空腔室的压力控制。近年来，原子层沉积法(ALD：AtomicLayerDeposition)的普及使得半导体的制造周期加快，真空腔室的压力控制是在高速下进行，因此，真空开闭阀也是高速地进行阀芯的开闭。此时，考虑使用专利文献1揭示那样的真空压力控制系统。该真空压力控制系统中使用的真空开闭阀在阀芯的开度的控制中使用的是响应性高的伺服阀，能使真空开闭阀的阀芯高精度地进行高速动作。【现有技术文献】【专利文献】【专利文献1】日本专利第5086166号公报
技术实现思路
【专利技术要解决的问题】然而，上述现有技术存在如下问题。申请人通过实验发现，当真空开闭阀高速地进行阀芯的开闭时，在真空开闭阀的内部会发生急剧的内压的变动，由此导致真空开闭阀产生振动。例如，在以往的真空开闭阀中，在使阀芯的开度从X1变为X2的情况(例如从闭阀状态变为完全开阀状态的情况)下，伺服阀是像图11所示那样从控制装置接收开度指示C21以使阀芯的开度变为X2(时间点t0)。伺服阀根据该开度指示C21来控制阀芯，阀芯像图11或图12的波形PV21所示那样在时间点t1上朝X2开始驱动。继而，在时间点t2达到X2。该阀芯的运动速度极高，因此，在阀芯运动起来的时间点t1上，真空开闭阀的内压发生急剧变动。内压的变动示于图12所示的波形P21，显然，在阀芯运动起来的时间点t1上发生了急剧变动。该内压的急剧变动导致真空开闭阀产生振动。若真空开闭阀产生振动，则存在该振动因在管道中传播而传递至真空腔室、有真空腔室的内壁面上附着的微粒剥落之虞这一问题。当剥落下来的微粒附着在晶圆表面时，会导致半导体的缺陷等对半导体制造的良率产生不良影响，因此，业界在寻求能够尽可能抑制振动的真空开闭阀。再者，以往即便真空开闭阀产生了振动也不是大问题，但近年来随着ALD的普及，出于减少所使用的气体的浪费等目的而推进半导体制造装置的小型化，上述问题便显现了出来。其原因在于，半导体制造装置的小型化使得半导体制造装置内部不断高密度化，真空开闭阀的配设位置变得比以往靠近真空腔室，由此导致真空开闭阀产生的振动容易传递至真空腔室。本专利技术是为了解决上述问题，其目的在于提供一种能够抑制阀芯进行动作时产生的振动的真空开闭阀。【解决问题的技术手段】为了解决上述问题，本专利技术的真空开闭阀具有如下构成。(1)一种真空开闭阀，其配设在真空腔室与真空泵之间，通过阀芯的开闭动作来进行真空腔室的排气，具备控制装置和控制阀，所述控制装置进行指定阀芯的开度的开度指示，所述控制阀使阀芯动作到与开度指示所指定的开度相对应的位置，该真空开闭阀的特征在于，控制阀进行使阀芯的位置在规定时间内从第一位置动作到第二位置的开度控制用的开度指示是指定与第一位置与第二位置之间的第三位置相对应的开度，之后从与第三位置相对应的开度逐渐变动到与第二位置相对应的开度。(2)根据(1)所述的真空开闭阀，其特征在于，第三位置为第一位置与第二位置的大致中间位置，逐渐变动是花费规定时间的大致一半的时间来进行。(3)根据(1)或(2)所述的真空开闭阀，其特征在于，逐渐变动是与时间经过成比例地从与第三位置相对应的开度逐渐变动到与第二位置相对应的开度。(4)根据(1)至(3)中任一项所述的真空开闭阀，其特征在于，真空开闭阀用于使用原子层沉积法的半导体制造装置，与真空腔室靠近配设。【专利技术的效果】本专利技术的真空开闭阀通过具有上述构成而具有如下作用、效果。根据(1)所述的真空开闭阀，能够抑制阀芯进行动作时产生的振动。以往的真空开闭阀中，在使阀芯从第一位置动作到第二位置的情况下，控制装置只是对控制阀指定与第二位置相对应的开度作为开度指示。这样的话，阀芯会朝第二位置急剧动作，因此真空开闭阀的内压发生急剧变动，导致真空开闭阀产生振动。另一方面，本专利技术中，在使阀芯从第一位置动作到第二位置的情况下，控制装置对控制阀首先指定与第一位置与第二位置之间的第三位置相对应的开度作为开度指示。其后，使指定的开度从与第三位置相对应的开度逐渐变动到与第二位置相对应的开度。通过如此进行控制，阀芯并不是朝第二位置急剧动作，而是首先朝第三位置开始动作，之后按照逐渐变动的开度指示动作到第二位置。因此，阀芯不会进行急剧的动作，可以防止真空开闭阀的内压的急剧变动，从而能抑制真空开闭阀产生的振动。只要能抑制真空开闭阀产生的振动，传递至真空腔室的振动也会得到抑制，使得真空腔室内壁上附着的微粒剥落而对半导体制造的良率产生不良影响的可能性降低。根据(2)所述的真空开闭阀，可以在不对阀芯进行动作的周期时间产生影响的情况下抑制阀芯进行动作时产生的振动。在使阀芯从第一位置动作到第二位置的情况下，控制装置对控制阀首先指定与第一位置与第二位置之间的大致中间位置相对应的开度作为开度指示。其后，使指定的开度从与大致中间位置相对应的开度逐渐变动到与第二位置相对应的开度。通过如此进行控制，阀芯并不是朝第二位置急剧动作，而是首先朝大致中间位置开始动作，之后按照逐渐变动的开度指示动作到第二位置。因此，阀芯不会进行急剧的动作，可以防止真空开闭阀的内压的急剧变动，从而能抑制真空开闭阀产生的振动。此外，申请人通过实验发现，通过花费阀芯从第一位置动作到第二位置的规定时间的大致一半的时间来进行大致中间位置起到第二位置为止的开度指示的逐渐变动，可以在不对阀芯从第一位置动作到第二位置的时间产生影响的情况下抑制真空开闭阀产生的振动。例如，在将使阀芯从第一位置动作到第二位置的时间(周期时间)设为1秒的情况下，在以往的真空开闭阀中，控制装置只是对控制阀指定与第二位置相对应的开度作为开度指示，使阀芯在1秒内进行动作。另一方面，在本专利技术中，控制装置对控制阀首先指定与第一位置与第二位置之间的第三位置相对应的开度作为开度指示。其后，花费0.5秒左右使指定的开度从与第三位置相对应的开度逐渐变动到与第二位置相对应的开度。通过如此进行控制，能使阀芯在1秒左右内从第一位置动作到第二位置，因此，一方面能防止真空开闭阀产生振动，另一方面能确保与以往的真空开闭阀同等的周期时间。根据(3)所述的真空开闭阀，开度指示所指定的开度是与时间经过成比例地从与第三位置相对应的开度逐渐变动到与第二位置相对应的开度，因此阀芯得以平顺地进行动作，从而能更可靠地抑制阀芯进行动作时产生的振动。根据(4)所述的真空开闭阀，本专利技术的真空开闭阀能够抑制阀芯进行动作时产生的振动，从而能防止振动传递至靠近的真空腔室。因此，真空腔室的内壁面上附着的微粒剥落之虞得以降低，从而降低了当剥落下来的微粒附着在晶圆表面时导致半导体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空开闭阀，其配设在真空腔室与真空泵之间，通过阀芯的开闭动作来进行所述真空腔室的排气，具备控制装置和控制阀，所述控制装置进行指定所述阀芯的开度的开度指示，所述控制阀使所述阀芯动作到与所述开度指示所指定的开度相对应的位置，该真空开闭阀的特征在于，/n所述控制阀进行使所述阀芯的位置在规定时间内从第一位置动作到第二位置的开度控制用的所述开度指示是指定与所述第一位置与所述第二位置之间的第三位置相对应的开度，之后从与所述第三位置相对应的开度逐渐变动到与所述第二位置相对应的开度。/n

【技术特征摘要】
20190522 JP 2019-0958961.一种真空开闭阀，其配设在真空腔室与真空泵之间，通过阀芯的开闭动作来进行所述真空腔室的排气，具备控制装置和控制阀，所述控制装置进行指定所述阀芯的开度的开度指示，所述控制阀使所述阀芯动作到与所述开度指示所指定的开度相对应的位置，该真空开闭阀的特征在于，
所述控制阀进行使所述阀芯的位置在规定时间内从第一位置动作到第二位置的开度控制用的所述开度指示是指定与所述第一位置与所述第二位置之间的第三位置相对应的开度，之后从与所述第三位置相对应的开度逐渐变动到与所述第二位置相对应的开度。


2.根据权利要求1所述的真空开闭阀，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：河野哲児郎，
申请(专利权)人：CKD株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP