聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法技术

本发明专利技术属于高分子材料技术领域，公开了一种聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法，常温环境下，将有机硅烷前驱体与阳离子光引发剂搅拌溶解混合均匀后，在基底上均匀涂抹；放置在装有紫外灯的密闭装置中，再通入有机溶剂的水溶液蒸汽环境中光照固化，得到有机聚硅烷超疏水涂层；所述有机硅烷前驱体的分子式为Cl

【技术实现步骤摘要】
聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法
本专利技术涉及高分子材料
，特别涉及一种聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法。
技术介绍
超疏水涂层因其表面的特殊性能而受到人们广泛的关注，在自清洁、防腐蚀、减阻等领域具有广阔的应用前景。聚硅氧烷因其具有较好的耐候能力、热稳定性和抗阻燃性能而被广泛应用在国民经济的各个领域。但是截止目前，基于均一聚硅氧烷超疏水涂层的报道较少，制备过程中往往需要通过昂贵的蚀刻步骤来获得涂层的表面粗糙度，从而使得涂层具有超疏水性能。
技术实现思路
专利技术目的：针对现有技术中存在的问题，本专利技术提供一种聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法，利用有机溶剂的水溶液蒸汽的部分溶解能力，设计了一种新型有机聚硅烷超疏水涂料的制备方法，此方法操作简便，制备速率快。技术方案：本专利技术提供了一种聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法，其特征在于，常温环境下，将有机硅烷前驱体与阳离子光引发剂搅拌溶解混合均匀后，在基底上均匀涂抹；放置在装有紫外灯的密闭装置中，再通入有机溶剂的水溶液蒸汽环境中光照固化，得到有机聚硅烷超疏水涂层；所述有机硅本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法，其特征在于，常温环境下，将有机硅烷前驱体与阳离子光引发剂搅拌溶解混合均匀后，在基底上均匀涂抹；放置在装有紫外灯的密闭装置中，再通入有机溶剂的水溶液蒸汽环境中光照固化，得到有机聚硅烷超疏水涂层；/n所述有机硅烷前驱体的分子式为Cl

【技术特征摘要】
1.一种聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法，其特征在于，常温环境下，将有机硅烷前驱体与阳离子光引发剂搅拌溶解混合均匀后，在基底上均匀涂抹；放置在装有紫外灯的密闭装置中，再通入有机溶剂的水溶液蒸汽环境中光照固化，得到有机聚硅烷超疏水涂层；
所述有机硅烷前驱体的分子式为Cl3SiCnH2n+1，其中n为8、10、12、16或18。


2.根据权利要求1所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述有机溶剂的水溶液蒸汽中，有机溶剂与水的摩尔比为1：0.1~10。


3.根据权利要求2所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述有机溶剂为丙酮。


4.根据权利要求1所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法，其特征在于，通入所述有机溶剂的水溶液蒸汽的压缩空气流量为：5mL/min~50mL/min。


5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：倪伶俐，刘永涛，芮国锋，蔡鹏，郑菲，张世忠，
申请(专利权)人：淮阴工学院，
类型：发明
国别省市：江苏;32