用于掩膜版光刻胶的缓存装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于掩膜版光刻胶的缓存装置，包括桶体、桶盖和密封圈，桶盖上设置有进气管和进液管，桶体底部设置有出液管，所述桶盖上还设置有清洗管，清洗管伸入桶体内，清洗管伸入桶体一端的侧面上均匀布置有圆孔喷嘴，桶体底部设置有废液排出管；本实用新型专利技术通过在清洁管内通入高压的清洁药液，清洁药液再通过圆孔喷嘴喷射至桶体的内壁，将桶体内壁残留的光刻胶清洁干净，清洁后的废液再通过废液排出管排出桶体；相比于传统拆卸式的清洁方式而言，本实用新型专利技术的清洁过程无需拆卸装置，省时省力，自动化程度高，提高了工作效率，降低了清洁风险，可更好的保护设备。

【技术实现步骤摘要】
用于掩膜版光刻胶的缓存装置
本技术涉及掩膜版制造
，尤其是一种用于掩膜版光刻胶的缓存装置。
技术介绍
掩膜版又称光掩膜版、光罩，由石英玻璃作为基板衬底，首先在石英玻璃基板上镀上一层金属铬层，然后在铬层上面涂覆光刻胶使其成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备使光刻胶感光，被曝光的区域通过显影、蚀刻在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模母版。掩膜版是LCD等面板生产过程中不可或缺的重要部件，LCD面板厂用掩膜版进行曝光以获取其需求图形。在掩膜版的制造过程中，涂覆光刻胶是非常重要且关键的一步，光刻胶的涂覆是在掩膜版上涂覆一层感光材料。目前，在涂覆光刻胶环节中需要使用到缓存桶，缓存桶包括桶体和桶盖，桶盖内设置有密封圈。由于密封圈长时间与光刻胶接触后，会引起密封圈腐蚀，导致密封圈失效，从而导致管路中的光刻胶被污染，大大降低了掩膜版产品的制造精度，甚至导致掩膜版产品制造失败；同时，缓存桶内光刻胶的液面下降后，壁面会残留一些光刻胶，如果不及时进行光刻胶的补充，这些残留的光刻胶会干涸，并附着在桶壁上。因此需要定期清洁本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.用于掩膜版光刻胶的缓存装置，包括桶体(1)、桶盖(2)和密封圈(3)，桶盖(2)上设置有进气管(21)和进液管(22)，桶体底部设置有出液管(11)，其特征在于，所述桶盖(2)上还设置有清洗管(23)，清洗管(23)伸入桶体(1)内，清洗管(23)伸入桶体(1)一端的侧面上均匀布置有圆孔喷嘴(231)，桶体底部设置有废液排出管(12)。/n

【技术特征摘要】
1.用于掩膜版光刻胶的缓存装置，包括桶体(1)、桶盖(2)和密封圈(3)，桶盖(2)上设置有进气管(21)和进液管(22)，桶体底部设置有出液管(11)，其特征在于，所述桶盖(2)上还设置有清洗管(23)，清洗管(23)伸入桶体(1)内，清洗管(23)伸入桶体(1)一端的侧面上均匀布置有圆孔喷嘴(231)，桶体底部设置有废液排出管(12)。


2.如权利要求1所述的用于掩膜版光刻胶的缓存装置，其特征在于，所述桶体(1)侧面设置有沿桶体高度方向布置的液位显示管(4)，液位显示管(4)与桶体(1)连通，液位显示管(4)上自上而下...

【专利技术属性】
技术研发人员：林伟，林超，周荣梵，
申请(专利权)人：成都路维光电有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51