一种双滤膜绝对测氡装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于核辐射测量技术领域，具体涉及一种双滤膜绝对测氡装置。包括衰变室、支架、测量室，入气管、探测器、主机、入口滤膜卡、出口滤膜卡、校准源卡、空卡、抽气管。测量室可分别测量校准源、入口滤膜卡计数、出口滤膜卡计数，并可快速地切换模式。蔽光升降轮可通过顺时针和逆时针旋转调整蔽光滑道盒上下位置，当需要更换卡时，将蔽光滑道盒位置调高，可更换卡；当需要测量及取样时，将蔽光滑道盒位置调至最低，可保证测量室密闭和蔽光。

【技术实现步骤摘要】
一种双滤膜绝对测氡装置
本技术属于核辐射测量
，具体涉及一种双滤膜绝对测氡装置。
技术介绍
随着人类对氡与其子体危害认识的深入，环境氡与其子体浓度的测量技术的研究、测量手段的研制受到了各国的重视。由于空气中氡浓度的测量属于低水平放射性测氡，加之采集、衰变修正及子体的干扰等因素，使空气中氡浓度测量变得相当复杂。双滤膜测氡法是在1960年前后提出的，但由于缺少一个可以根据出口滤膜的活度，准确计算被测气体中氡浓度的公式，因而长期以来只被用作相对测量方法。后托马斯原则上解决了这一难题，推导出了托马斯公式，并经过试验验证。从而使双滤膜测氡法可用于氡浓度的绝对测量。但托马斯公式未解决重力沉降、探头结构等的影响，使测量结果存在着一些误差。另外测量中涉及入口滤膜采样和出口滤膜采样测量操作，仪器操作复杂。传统的技术方案由于面临上述不足，因此亟需研制一种双滤膜绝对测氡装置，从而解决上述问题。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是针对现阶段绝对测氡方法中未解决重力沉降因素，仪器操作复杂等，提出重力沉降影响小、操作简便的双滤本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双滤膜绝对测氡装置，其特征在于：包括衰变室(1)、支架(2)、测量室(3)，入气管(4)、探测器(5)、主机(6)、入口滤膜卡(7)、出口滤膜卡(8)、校准源卡、空卡、抽气管(11)；/n所述衰变室(1)为垂直柱型结构，衰变室(1)入口端安装入口滤膜卡(7)、出口端安装出口滤膜卡(8)；/n衰变室(1)由支架(2)固定到地面；/n所述测量室(3)包括蔽光升降轮(12)、蔽光滑道盒(13)、卡位I(14)、卡位II(15)、蔽光帘I(16)、蔽光帘II(17)；/n所述蔽光滑道盒(13)为测量室(3)的主体结构，其两端分别设置卡位I(14)和卡位II(15)两个空间，卡位I(14)对准探...

【技术特征摘要】
1.一种双滤膜绝对测氡装置，其特征在于：包括衰变室(1)、支架(2)、测量室(3)，入气管(4)、探测器(5)、主机(6)、入口滤膜卡(7)、出口滤膜卡(8)、校准源卡、空卡、抽气管(11)；
所述衰变室(1)为垂直柱型结构，衰变室(1)入口端安装入口滤膜卡(7)、出口端安装出口滤膜卡(8)；
衰变室(1)由支架(2)固定到地面；
所述测量室(3)包括蔽光升降轮(12)、蔽光滑道盒(13)、卡位I(14)、卡位II(15)、蔽光帘I(16)、蔽光帘II(17)；
所述蔽光滑道盒(13)为测量室(3)的主体结构，其两端分别设置卡位I(14)和卡位II(15)两个空间，卡位I(14)对准探测器(5)的灵敏区位置，卡位II(15)对准衰变室(1)的出口位置；
入气管(4)用于将空气导入衰变室(1)；
所述探测器(5)用于探测α放射性并将信号输出给主机(6)；
所述入口滤膜卡(7)用于收集进入衰变室(1)前的子体放射性；
所述出口滤膜卡(8)用于收集进入衰变室(1)后的子体放射性；
所述校准源卡为α放射源，用于仪器探测效率的校准；
所述空卡用于辅助更换卡；
所述抽气管(11)用于抽取衰变室(1)内的空气。


2.如权利要求1所述的一种双滤膜绝对测氡装置，其特征在于：所述测量室(3)中，所述蔽光升降轮(12)通过旋转调整蔽光滑道盒(13)上下位置。


3.如权利要求1所述的一种双滤膜绝对测氡装置，其特征在于：所述测量室(3)中，蔽光帘I(16)和蔽光帘II(17)用于测量室(3)蔽光。


4.如权利要求1所述的一种双滤膜绝对测氡装置，其特征在于：入口滤膜卡(7)、出口滤膜卡(8)、校准源卡、空卡具有相同的外形结构，根据需...

【专利技术属性】
技术研发人员：王婷婷，张庆威，
申请(专利权)人：中核控制系统工程有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11