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本实用新型属于核辐射测量技术领域，具体涉及一种双滤膜绝对测氡装置。包括衰变室、支架、测量室，入气管、探测器、主机、入口滤膜卡、出口滤膜卡、校准源卡、空卡、抽气管。测量室可分别测量校准源、入口滤膜卡计数、出口滤膜卡计数，并可快速地切换模式。蔽...
该专利属于中核控制系统工程有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中核控制系统工程有限公司授权不得商用。

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