一种钕铝靶材溅射面的抛光工艺制造技术

本发明专利技术涉及一种钕铝靶材溅射面的抛光工艺，所述抛光工艺包括依次进行的第一机械抛光、第二机械抛光、第三机械抛光和第四机械抛光；所述第一机械抛光中所用的砂带为320#白刚玉砂带；所述第二机械抛光中所用的砂带为400#白刚玉砂带；所述第三机械抛光中所用的砂带为600#白刚玉砂带；所述第四机械抛光采用800#白刚玉砂带。本发明专利技术通过对靶材溅射面抛光工艺的重新设计使得靶材溅射面的表面应力分布均匀，并且在溅射过程中不存在异常放电等问题，粗糙度稳定在0.4‑0.7μm，保证了产品的稳定性。

【技术实现步骤摘要】
一种钕铝靶材溅射面的抛光工艺
本专利技术涉及靶材领域，具体涉及一种钕铝靶材溅射面的抛光工艺。
技术介绍
铝钕靶材主要用于平面显示器、触摸屏的玻璃基板电极层的镀膜。目前，其主要采用真空熔炼和热压烧结方法研发和生产小尺寸平面靶，大尺寸靶是通过小尺寸拼接形成。CN104831242A公开了一种一体化大尺寸铝钕旋转靶材及其制备方法,其中制备方法包括预处理和电弧喷涂打底不锈钢基体背管，对纯度99.99％铝钕粉末进行球磨整形，在真空或保护气氛中等离子冷喷涂钕铝粉末到带有镍铝过渡层不锈钢基体背管上形成钕铝旋转靶材。制备的铝钕旋转靶材厚度可达到3-16mm，靶材相对密度大于97％，纯度达到99.99％，含氧量小于200ppm。本专利技术既能发挥真空喷涂纯度高、含氧量低等优点，又能发挥出冷喷涂致密度高，组织均匀等优点，可以大幅度提高靶材品质，使靶材运用于更广泛的领域。CN103184419A公开了一种铝钕合金靶材的生产方法，其包括(1)将铝锭和金属钕块切割成细条，表面超声波清洗，烘干，称量装炉，将炉体抽真空，氧化铝坩埚升温至800-1000℃，真本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种钕铝靶材溅射面的抛光工艺，其特征在于，所述抛光工艺包括依次进行的第一机械抛光、第二机械抛光、第三机械抛光和第四机械抛光；/n所述第一机械抛光中所用的砂带为320#白刚玉砂带；所述第二机械抛光中所用的砂带为400#白刚玉砂带；所述第三机械抛光中所用的砂带为600#白刚玉砂带；所述第四机械抛光采用800#白刚玉砂带。/n

【技术特征摘要】
1.一种钕铝靶材溅射面的抛光工艺，其特征在于，所述抛光工艺包括依次进行的第一机械抛光、第二机械抛光、第三机械抛光和第四机械抛光；
所述第一机械抛光中所用的砂带为320#白刚玉砂带；所述第二机械抛光中所用的砂带为400#白刚玉砂带；所述第三机械抛光中所用的砂带为600#白刚玉砂带；所述第四机械抛光采用800#白刚玉砂带。


2.如权利要求1所述的抛光工艺，其特征在于，所述第一机械抛光中砂带的速度为3-3.5m/min。


3.如权利要求1或2所述的抛光工艺，其特征在于，所述第一机械抛光的终点为表面无明显划痕。


4.如权利要求1-3任一项所述的抛光工艺，其特征在于，所述第二机械抛光中砂带的速度为1-2m/min。


5.如权利要求1-4任一项所述的抛光工艺，其特征在于，所述第二机械抛光的终点为表面无明显划痕。


6.如权利要求1-5任一项所述的抛光工艺，其特征在于，所述第三机械抛光中...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，窦兴贤，王学泽，王青松，刘明健，
申请(专利权)人：合肥江丰电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34