光路调制器件、光学设备、指纹识别传感器和电子装置制造方法及图纸

本申请提供一种光路调制器件、光学设备、指纹识别传感器和电子装置，光路调制器件包括：滤光层(20)、光阻隔层(30)和光路调制元件(40)，其中，所述光阻隔层(30)上开设单个或多个间隔设置的光通孔(31)，所述光路调制元件(40)在所述光阻隔层(30)上的投影覆盖所述光通孔(31)，且所述滤光层(20)用于将所述光阻隔层(30)以及所述光路调制元件(40)位置处的特定波长的光线选择性透过，本申请实现了单一光路调制器件对特定波长的光波进行选择性透过以及光路调制的目的，同时光阻隔层和滤光层的二次阻隔使得光线具有极低的透过率，排除了其他杂散光的干扰。

【技术实现步骤摘要】
光路调制器件、光学设备、指纹识别传感器和电子装置
本申请涉及光学技术，尤其涉及一种具有光波选择性透过及光路调制功能的光路调制器件、光学设备、指纹识别传感器和电子装置。
技术介绍
随着智能终端的不断发展，越来越多的光学设置如摄像头，3D成像传感器，指纹识别传感器等光学设备应用到终端中，其中，该些光学设备在应用时，均需要对特定波长范围的光进行光路调制后进行收集以及识别，同时剔除不需要的波长范围的其他杂散光的干扰。目前，光学设备中单一透镜很难有较好的波长选择特性，为了达到对特定波长范围的光进行选择，光学设备中往往通过将一片或几片单独的滤光片放置于透镜光路之中，以达到滤光效果，设置时，光学设备中的滤光片和透镜是单独制作并依靠模组安装在一起。然而，上述光学设备中由于滤光片和透镜需单独制作，这样一方面增加了制造透镜模组部分的工艺，且滤光片的设置使得整个透镜模组的厚度较厚，另一方面由于工艺限制使得滤光片和透镜组装后不能很好地排除其他杂散光的干扰。
技术实现思路
本申请提供一种光路调制器件、光学设备、指纹识别传感器和电子装置，实本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光路调制器件，其特征在于，包括：/n基底；/n光路调制元件，形成在所述基底上方；/n光阻隔层，位于所述光路调制器件和所述基底之间，所述光阻隔层开设有光通孔以形成光线透过区域和光线阻隔区域，其中，所述光路调制元件在所述光阻隔层的投影覆盖所述光通孔，以对穿过所述光通孔的光线进行光路调制；/n滤光层，所述滤光层至少覆盖所述光阻隔层的光线透过区域，用于对所述光路调制元件处的具有特定波长的光线进行选择性透过。/n

【技术特征摘要】
20190228 CN PCT/CN2019/0765651.一种光路调制器件，其特征在于，包括：
基底；
光路调制元件，形成在所述基底上方；
光阻隔层，位于所述光路调制器件和所述基底之间，所述光阻隔层开设有光通孔以形成光线透过区域和光线阻隔区域，其中，所述光路调制元件在所述光阻隔层的投影覆盖所述光通孔，以对穿过所述光通孔的光线进行光路调制；
滤光层，所述滤光层至少覆盖所述光阻隔层的光线透过区域，用于对所述光路调制元件处的具有特定波长的光线进行选择性透过。


2.根据权利要求1所述的光路调制器件，其特征在于，所述光路调制器件包括至少一个透镜，且所述至少一个透镜的光心在所述光阻隔层的投影与所光通孔的中心相互重合。


3.根据权利要求2所述的光路调制器件，其特征在于，所述滤光层覆盖在所述基底表面，并位于所述基底和所述光阻隔层之间，所述光路调制元件形成在所述光阻隔层上方并填充到所述光阻隔层的光通孔，其中所述光路调制元件在所述光阻隔层的投影面积大于或等于所述光通孔的开口面积以完全覆盖所述光通孔。


4.根据权利要求2所述的光路调制器件，其特征在于，所述光阻隔层覆盖在所述基底表面，所述光路调制元件形成在所述光阻隔层的光线透光区域上方，并填充到所述光阻隔层的光通孔，所述滤光层覆盖所述光路调制元件以及所述光阻隔层的光线阻隔区域。


5.根据权利要求2所述的光路调制器件，其特征在于，所述光阻隔层形成在所述基底表面，所述滤光层设置在所述光阻隔层上方，并且覆盖所述光阻隔层的光线透光区域和光线阻隔区域，所述光路调制元件设置在所述滤光层的上方并完全覆盖所述光阻隔层的光通孔。


6.根据权利要求1所述的光路调制器件，其特征在于，所述滤光层同时覆盖所述光阻隔层的光线透过区域和光线阻隔区域，以与所述光阻隔层相互配合对杂散光线进行二次阻隔。


7.根据权利要求1所述的光路调制器件，其特征在于，所述基底为可透光基底，所述可透光基底在可见光范围以及近红外波段具有高透过率。


8.根据权利要求7所述的光路调制器件，其特征在于，所述滤光层的透光波段范围包括700nm至1100nm，且所述光阻隔层为对波段范围为300nm至1100nm的光线具有低透...

【专利技术属性】
技术研发人员：王文轩，沈健，王红超，姚国峰，
申请(专利权)人：深圳市汇顶科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44