【技术实现步骤摘要】
CVD水台升降旋转装置
本技术涉及一种升降旋转装置,具体是指一种CVD水台升降旋转装置。
技术介绍
CVD水台用于安放生长金刚石膜的基体,其一般要求具有升降运动,这主要是为了调节热丝与水台之间的距离,如在实验准备阶段安放工件与安装热丝时往往需要将水台降低,以便于操作;在实验生长价段需要升高水台从而使水台表面形成适宜金刚石膜沉积的条件。除了升降运动外,水台还要求具备旋转运动,主要用于使金刚石膜沉积表面的湿度场均匀,提高成膜品质。然而传统的CVD金刚石沉积设备中用于控制水台运动的升降旋转装置结构复杂,其零部件的加工困难,制造成本高,维护保养困难;因此急需一种结构简单的CVD水台升降旋转装置。
技术实现思路
本技术的目的在于解决上述问题,提供一种结构简单的CVD水台升降旋转装置。本技术的目的通过下述技术方案实现:CVD水台升降旋转装置,包括支撑架,安装在支撑架上的升降机构,安装在升降机构上的升降架,以及安装在升降架上的旋转装置10;所述升降机构包括相对安装在支撑架上的两根滑轨4,分别安装在两根滑轨4上的两个滑块3,安装在支撑架上的马达15,连接在马达15的转轴上的丝杆11;所述升降架连接在两个滑块3之间,升降架上安装有T形螺母5,所述丝杆11贯穿T形螺母5与T形螺母5螺纹配合。进一步的,所述升降架包括连接在两个滑块3之间的滑块连杆17,分别设置在滑块连杆17两端的两根螺杆6,以及连接在两根螺杆6上端的安装板7;所述T形螺母5安装在滑块连杆17上,所述旋转装置10安装在安装板7上。所述 ...
【技术保护点】
1.CVD水台升降旋转装置,其特征在于,包括支撑架,安装在支撑架上的升降机构,安装在升降机构上的升降架,以及安装在升降架上的旋转装置(10);所述升降机构包括相对安装在支撑架上的两根滑轨(4),分别安装在两根滑轨(4)上的两个滑块(3),安装在支撑架上的马达(15),连接在马达(15)的转轴上的丝杆(11);所述升降架连接在两个滑块(3)之间,升降架上安装有T形螺母(5),所述丝杆(11)贯穿T形螺母(5)与T形螺母(5)螺纹配合。/n
【技术特征摘要】
1.CVD水台升降旋转装置,其特征在于,包括支撑架,安装在支撑架上的升降机构,安装在升降机构上的升降架,以及安装在升降架上的旋转装置(10);所述升降机构包括相对安装在支撑架上的两根滑轨(4),分别安装在两根滑轨(4)上的两个滑块(3),安装在支撑架上的马达(15),连接在马达(15)的转轴上的丝杆(11);所述升降架连接在两个滑块(3)之间,升降架上安装有T形螺母(5),所述丝杆(11)贯穿T形螺母(5)与T形螺母(5)螺纹配合。
2.根据权利要求1所述的CVD水台升降旋转装置,其特征在于,所述升降架包括连接在两个滑块(3)之间的滑块连杆(17),分别设置在滑块连杆(17)两端的两根螺杆(6),以及连接在两根螺杆(6)上端的安装板(7);所述T形螺母(5)安装在滑块连杆(17)上,所述旋转装置(10)安装在安装板(7)上。
3.根据权利要求2所述的CVD水台升降旋转装置,其特征在于,所述支撑架包括机架底板(1),相对安装在机架底板(1)上的两根滑轨固定板(2),连接在两根滑轨固定板(2)之间的马达长底板...
【专利技术属性】
技术研发人员:景晓妮,王金朋,韩斌,袁强,
申请(专利权)人:上海东贝真空设备有限公司,
类型:新型
国别省市:上海;31
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