四氢噻吩并吡啶化合物的B晶型及制法、组合物和应用制造技术

本发明专利技术公开了结构如式I如示的四氢噻吩并吡啶化合物的B晶型及制法、组合物和应用，解决现有技术中杂质多，含量低，晶型稳定性差，无法成药的问题。所述B晶型使用Cu‑Kα辐射，以2θ角度表示的X‑射线粉末衍射在11.21±0.2°、12.61±0.2°、14.69±0.2°、16.14±0.2°、17.81±0.2°、20.22±0.2°、22.10±0.2°处有特征峰。本发明专利技术的B晶型杂质少、稳定性好，结晶度好，重现性，适合工业化生产；还具有预料不到的更强的抗ADP诱导的血小板聚集作用和更良好的流动性。

【技术实现步骤摘要】
四氢噻吩并吡啶化合物的B晶型及制法、组合物和应用
本专利技术属于药物化学
，具体涉及四氢噻吩并吡啶化合物(S)-2-(2-氯苯基)-2-((S)-2-氧代-2,6,7,7a-四氢噻吩[3,2-c]并吡啶-5(4H)基)乙酸甲酯的B晶型，及制法、组合物和应用。技术背景据《中国心血管病报告2017》数据显示，我国心血管病(CVD)患病率及死亡率近年来一直处于上升阶段，推算CVD现患人数2.9亿，其中脑卒中1300万，冠心病1100万，心力衰竭450万，高血压2.7亿。而发表在《心脏病学》(JAMACardiology)的最新调查数据显示，2016年因CVD导致的总体死亡人数在我国高达397万，占居民疾病死亡总数的40％以上，已经成为我国居民因病死亡的首要因素，高于肿瘤致死人数。其中，心脑血管血栓性疾病如：缺血性脑卒中(IS)，出血性脑卒中(HS)则是最主要的高致死性疾病。同时，最近完成的一项由Ness-China主持的中国卒中疾病负担横断面调查研究结果显示，截止至2013年，脑卒中发病率粗率在我国已达到了每10万人每年中发病345.1例的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种结构如式I所示的四氢噻吩并吡啶化合物的B晶型，其特征在于，使用Cu-Kα辐射，以2θ角度表示的X-射线粉末衍射在11.21±0.2°、12.61±0.2°、14.69±0.2°、16.14±0.2°、17.81±0.2°、20.22±0.2°、22.10±0.2°处有特征峰；/n

【技术特征摘要】
1.一种结构如式I所示的四氢噻吩并吡啶化合物的B晶型，其特征在于，使用Cu-Kα辐射，以2θ角度表示的X-射线粉末衍射在11.21±0.2°、12.61±0.2°、14.69±0.2°、16.14±0.2°、17.81±0.2°、20.22±0.2°、22.10±0.2°处有特征峰；





2.根据权利要求1所述的四氢噻吩并吡啶化合物的B晶型，其特征在于，使用Cu-Kα辐射，以2θ角度表示的X-射线粉末衍射在11.21±0.2°、12.61±0.2°、14.69±0.2°、16.14±0.2°、17.81±0.2°、20.22±0.2°、22.10±0.2°、23.24±0.2°、27.68±0.2°、28.57±0.2°处有特征峰。


3.根据权利要求2所述的四氢噻吩并吡啶化合物的B晶型，其特征在于，使用Cu-Kα辐射，以2θ角度表示的X-射线粉末衍射在11.21±0.2°、12.61±0.2°、14.69±0.2°、16.14±0.2°、17.81±0.2°、19.42±0.2°、20.22±0.2°、20.76±0.2°、22.10±0.2°、23.24±0.2°、24.31±0.2°、27.01±0.2°、27.68±0.2°、28.57...

【专利技术属性】
技术研发人员：岑国栋，杨茂廷，谭少军，杨宁远，
申请(专利权)人：成都施贝康生物医药科技有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51