一种高效率真空镀膜系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种高效率真空镀膜系统，包括镀膜架、镀膜室、中央处理器和控制装置；所述镀膜架和中央处理器均位于所述镀膜室内，所述控制装置设置在所述镀膜室外；所述真空镀膜系统还包含有镀膜装置，且镀膜装置设有多个均位于所述镀膜室内。

【技术实现步骤摘要】
一种高效率真空镀膜系统
本技术涉及真空镀膜
，具体涉及一种高效率真空镀膜系统。
技术介绍
真空镀膜系统用于对产品进行真空镀膜，现有的真空镀膜系统，其由于镀膜材料的浓度上升过程较慢，低浓度的雾化的镀膜材料镀膜效率低，因此镀膜时间长，而高浓度的雾化的镀膜材料由于在镀膜缸体停留的时间较短，虽然镀膜时间短，但是会造成大量的浪费。镀膜本身是用以改变工件的表面特性，为了能够使工件的表面获得多种不同的性能，往往还需要对工件进行多重镀膜，因此，需要将镀膜工件在不同的镀膜机之间转换从而获得不同的镀膜层，造成时间上的浪费，并且多次转换使得效率低下，镀膜方式繁琐。基于此，特提出了一种高效率真空镀膜系统。
技术实现思路
针对上述现有技术的不足，本技术所要解决的技术问题是：提供了一种高效率真空镀膜系统解决镀膜时浪费时间的问题，使镀膜方式简单，提高效率。为了解决上述技术问题，本技术采用了如下的技术方案：一种高效率真空镀膜系统，其关键在于：包括镀膜架、镀膜室、中央处理器和控制装置；所述镀膜架和中央处理器均位于所述镀膜室内，所述控制装置设置在所述镀膜室外；所述真空镀膜系统还包含有镀膜装置，且镀膜装置设有多个均位于所述镀膜室内。优选的，所述镀膜架一侧与进料装置连接。优选的，所述控制装置还分别连接有喷漆室、喷射装置和溶剂存储装置，且所述喷漆室与所述喷射装置和所述溶剂存储装置分别连接。优选的，所述溶剂存储装置一侧连接有出料装置。优选的，所述进料装置的进料口处设有镀膜材料用的加热装置。<br>优选的，所述进料口处还设有电磁阀。优选的，所述电磁阀为单向电磁阀。优选的，所述加热装置为加热线圈，且该加热线圈与所述控制装置连接。优选的，所述控制装置包括控制器和电机。本技术的有益效果是：避免了镀膜气体的污染，且提高了镀膜的质量，且镀膜方式简便，提高镀膜效率，且镀膜材料利用率提高，节约能源。附图说明图1为本技术的整体结构示意图；图2为本技术中控制系统的示意图。具体实施方式下面结合附图对本技术作进一步的详细说明。具体实施时：如图1至2所示：一种高效率真空镀膜系统，包括镀膜架、镀膜室、中央处理器和控制装置；镀膜架和中央处理器均位于镀膜室内，控制装置设置在镀膜室外；真空镀膜系统还包含有镀膜装置，且镀膜装置设有多个均位于镀膜室内。镀膜架一端与进料装置连接。控制装置还分别连接有喷漆室、喷射装置和溶剂存储装置，且喷漆室与喷射装置和溶剂存储装置分别连接。溶剂存储装置一端连接有出料装置。进料装置的进料口处设有镀膜材料用的加热装置。进料口处还设有电磁阀。电磁阀为单向电磁阀。加热装置为加热线圈，且该加热线圈与控制装置连接。控制装置包括控制器和电机。控制装置控制加热线圈对镀膜材料进行加热，当控制装置控制加热装置增大一定的功率，镀膜室内浓度低于一定值时，控制装置再控制电磁阀打开，放入雾化后的镀膜材料进入镀膜室内进行镀膜，然后从出料装置的出料口排出；配合冷凝井检测气体温度和流量，可以计算出所需要的冷凝温度，然后控制温度，实现节约能源。以上仅是本技术优选的实施方式，需指出的是，对于本领域技术人员在不脱离本技术方案的前提下，作出的若干变形和改进的技术方案应同样视为落入本权利要求书要求保护的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高效率真空镀膜系统，其特征在于：包括镀膜架、镀膜室、中央处理器和控制装置；所述镀膜架和中央处理器均位于所述镀膜室内，所述控制装置设置在所述镀膜室外；所述真空镀膜系统还包含有镀膜装置，且镀膜装置设有多个均位于所述镀膜室内。/n

【技术特征摘要】
1.一种高效率真空镀膜系统，其特征在于：包括镀膜架、镀膜室、中央处理器和控制装置；所述镀膜架和中央处理器均位于所述镀膜室内，所述控制装置设置在所述镀膜室外；所述真空镀膜系统还包含有镀膜装置，且镀膜装置设有多个均位于所述镀膜室内。


2.根据权利要求1所述的一种高效率真空镀膜系统，其特征在于：所述镀膜架一端与进料装置连接。


3.根据权利要求1所述的一种高效率真空镀膜系统，其特征在于：所述控制装置还分别连接有喷漆室、喷射装置和溶剂存储装置，且所述喷漆室与所述喷射装置和所述溶剂存储装置分别连接。


4.根据权利要求3所述的一种高效率真空镀膜系统，其特征在于：所述溶剂存...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭俊春，
申请(专利权)人：重庆盛科纳科技有限公司，
类型：新型
国别省市：重庆;50