杂环化合物以及包含此化合物的有机发光装置制造方法及图纸

本说明书是关于一种由化学式1表示的杂环化合物，及一种包括此化合物的有机发光装置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】杂环化合物以及包含此化合物的有机发光装置
本申请案主张2018年4月17日在韩国知识产权局申请的韩国专利申请案第10-2018-0044407号的优先权及权益，所述申请案的全部内容以引用的方式并入本文中。本说明书涉及一种杂环化合物以及包括此化合物的有机发光装置。
技术介绍
电致发光装置为一种自发光显示装置，且具有拥有广视角与较快回应速度以及拥有极佳对比度的优势。有机发光装置具有在两个电极之间安置有机薄膜的结构。当将电压施加至具有此类结构的有机发光装置时，自两个电极注入的电子及空穴在有机薄膜中结合及配对，且在所述电子以及所述空穴湮灭时发光。视需要可形成单层或多层有机薄膜。视需要，有机薄膜的材料可具有发光功能。举例而言，可使用本身单独能够形成发光层的化合物作为有机薄膜的材料，或亦可使用能够起到主体-掺杂剂类(host-dopant-based)发光层的主体或掺杂剂作用的化合物作为有机薄膜的材料。另外，亦可使用能够起空穴注入、空穴传输、电子阻挡、空穴阻挡、电子传输、电子注入以及类似作用的化合物作为有机薄膜的材料。持续需本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种杂环化合物，由以下化学式1表示：/n[化学式1]/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180417 KR 10-2018-00444071.一种杂环化合物，由以下化学式1表示：
[化学式1]



其中，在化学式1中，
X1为N或CR1；
X2为N或CR2；
Y为O、S、CRR'或NR"；
L为直接键、经取代或未经取代的亚芳基或经取代或未经取代的亚杂芳基；
m为0至5的整数；
N-Het为经取代或未经取代的且包括一或多个N的单环杂环基或多环杂环基；
R1及R2彼此相同或不同，且各自独立地由下述者所组成的族群中选出：氢、经取代或未经取代的烷基、经取代或未经取代的芳基以及经取代或未经取代的杂芳基，或彼此相邻的两个或大于两个基团彼此键结以形成经取代或未经取代的脂族烃环或芳族烃环或经取代或未经取代的脂族杂环或芳族杂环；
Ra至Rc、R、R'以及R"彼此相同或不同，且各自独立地由下述者所组成的族群中选出：氢、氘、卤素、氰基、经取代或未经取代的烷基、经取代或未经取代的烯基、经取代或未经取代的炔基、经取代或未经取代的烷氧基、经取代或未经取代的环烷基、经取代或未经取代的杂环烷基、经取代或未经取代的芳基、经取代或未经取代的杂芳基、经取代或未经取代的氧化膦基团以及经取代或未经取代的胺基，或彼此相邻的两个或大于两个基团彼此键结以形成经取代或未经取代的脂族烃环或芳族烃环或经取代或未经取代的脂族杂环或芳族杂环，n及q各自为0至4的整数，且在n为2或大于2时，Ra彼此相同或不同，且在q为2或大于2时，Rc彼此相同或不同，p为0至2的整数，且在p为整数2时，Rb彼此相同或不同；以及
n+p+q≤9。


2.根据权利要求1所述的杂环化合物，其中化学式1由以下化学式2至化学式5中的任一者表示：
[化学式2]



[化学式3]



[化学式4]



[化学式5]



在化学式2至化学式5中，
R1、R2以及R11至R18彼此相同或不同，且各自独立地由下述者所组成的族群中选出：氢、氘、卤素、氰基、经取代或未经取代的烷基、经取代或未经取代的烯基、经取代或未经取代的炔基、经取代或未经取代的烷氧基、经取代或未经取代的环烷基、经取代或未经取代的杂环烷基、经取代或未经取代的芳基、经取代或未经取代的杂芳基、经取代或未经取代的氧化膦基团以及经取代或未经取代的胺基；
Z1及Z2彼此相同或不同，且各自独立地为直接键、O或S；以及
Ra至Rc、Y、N-Het、L、m、n、p以及q具有与化学式1中相同的定义。


3.根据权利要求1所述的杂环化合物，其中化学式1由以下化学式6至化学式9中的任一者表示：
[化学式6]



[化学式7]



[化学式8]



[化学式9]



在化学式6至化学式9中，
R1、R2以及R11至R18彼此相同或不同，且各自独立地由下述者所组成的族群中选出：氢、氘、卤素、氰基、经取代或未经取代的烷基、经取代或未经取代的烯基、经取代或未经取代的炔基、经取代或未经取代的烷氧基、经取代或未经取代的环烷基、经取代或未经取代的杂环烷基、经取代或未经取代的芳基、经取代或未经取代的杂芳基、经取代或未经取代的氧化膦基团以及经取代或未经取代的胺基；
R21至R28彼此相同或不同，且各自独立地由下述者所组成的族群中选出：氢、氘、卤素、氰基、经取代或未经取代的烷基、经取代或未经取代的烯基、经取代或未经取代的炔基、经取代或未经取代的烷氧基、经取代或未经取代的环烷基、经取代或未经取代的杂环烷基、经取代或未经取代的芳基、经取代或未经取代的杂芳基、经取代或未经取代的氧化膦基团以及经取代或未经取代的胺基，或彼此相邻的两个或大于两个基团彼此键结...

【专利技术属性】
技术研发人员：牟晙兑，金美眞，边志玧，李宗洙，金东骏，
申请(专利权)人：LT素材株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR