【技术实现步骤摘要】
本专利技术总的来说涉及一种电反馈探测系统,其用于探测多点探针和局部导电、半导电或超导材料测试样品表面之间的体接触和/或紧密接近,和进一步涉及控制多点探针和材料测试样品表面的相对位置的技术,并且特别涉及一种用于多点探针和多点测试设备的电反馈探测系统,该多点探针和多点测试设备在欧洲专利申请EP 98610023.8(Petersen)、国际专利申请PCT/DK99/00391(Capres ApS等人)、欧洲专利申请EP 99932677.0(Capres ApS)、欧洲专利申请EP 99610052.5(Petersen等人)和国际专利申请PCT/DK00/00513(Capres ApS等人)中进行了描述。相关领域描述从文献中已熟知了涉及单探针电极控制方法的扫描隧穿显微镜,其中单探针电极面向传导样品表面;参看例如Binnig和Rohrer,Scanning tunneling microscopy,Helv,Phys.Acta,vol.55,pg.355(1982)。扫描隧穿显微镜包括传导样品和探针,如附图说明图1(a)所示。如果探针和样品由很短的距离d隔开 ...
【技术保护点】
一种用于探测多点探针对材料测试样品表面的电接触的电反馈探测系统,包括:a.电发生器设备,其连接至多点探针第一电极组;b.第二开关阻抗探测元件组,其连接所述多点探针的所述第一电极组;和c.电探测器装置,其用于探测来自跨越所述第二开关阻抗探测元件组的电信号的测量信号。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员:克里斯蒂安莱特彼得森,彼得福尔默尼耳森,
申请(专利权)人:卡普雷斯股份有限公司,
类型:发明
国别省市:DK[丹麦]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。