梯度线圈装置制造方法及图纸

技术编号:2634291 阅读:182 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种用于产生MR装置的梯度磁场的梯度线圈装置,其具有被设置在具有基本上圆形横断面的圆柱体表面上的至少两个梯度线圈。为了使梯度场的调节能够尽可能线性地在待检对象区域中延伸,而不必修改MR装置的整个机械结构并且不必增加馈给梯度线圈装置所需要的功率,建议根据本发明专利技术配置这样的梯度线圈,以便于相对于穿过圆柱体纵轴水平展现的中央平面是非对称的。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于产生MR装置的梯度磁场的梯度线圈装置,其带有被设置在具有基本上为圆形横断面的圆柱体表面上的至少两个梯度线圈。本专利技术还涉及一种用于MR装置的线圈装置及MR装置本身。
技术介绍
这个类型的梯度线圈装置被用在所有的磁共振设置(MR装置)中以在x,y和z方向上将梯度磁场叠加到静态磁场上。然后梯度线圈被设置在具有圆形横断面的圆柱体表面上的主场磁体内的几个层上,患者被设置在其内用于检查。为了更快速扫描患者且更快速地获得所需要的图像,梯度线圈必须被更快速地切换,为此必要的梯度磁场必须由梯度线圈更快速地产生。然而,与此同时被分配给梯度线圈的梯度放大器的功率不可以进一步有任何增加,其结果将是显著的成本增加。为了改善梯度线圈的效率,因此优选地它们的设计应该加以改善。从EP 1 099 952 A2中可知地是用于MR设备的梯度线圈装置,其中所需要的馈给梯度线圈装置的功率被降低,由于位于患者台下方的高频线圈装置中的导体较位于患者台上方的导体距圆柱体的对称轴具有较短的距离,并且梯度线圈装置的横断面与高频线圈装置的横断面相匹配。因此,梯度线圈装置相对于穿过圆柱体纵轴水平设置的中央平面本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于产生MR装置的梯度磁场的梯度线圈装置,具有被设置在具有基本上圆形横断面的圆柱体表面(41,42,51,52,61,62)上的至少两个梯度线圈,其特征在于所述梯度线圈(41,42,51,52,61,62)相对于通过圆柱体纵轴(3)的水平位置的中央平面(M)被非对称地实施。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:CLG哈姆JA奥维韦格GN皮伦
申请(专利权)人:皇家飞利浦电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:NL[荷兰]

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