【技术实现步骤摘要】
抗反射膜本申请是申请日为2017年3月9日，申请号为“201780005924.2”，专利技术名称为“抗反射膜”的中国专利申请的分案申请。相关申请的交叉引用本申请要求向韩国知识产权局于2016年3月9日提交的韩国专利申请第10-2016-0028468号、2016年3月11日提交的韩国专利申请第10-2016-0029336号、2016年3月14日提交的韩国专利申请第10-2016-0030395号以及于2017年3月9日提交的韩国专利申请第10-2017-0029954号的优先权的权益，其全部公开内容通过引用并入本文。
本专利技术涉及抗反射膜。更具体地，本专利技术涉及这样的抗反射膜：其能够在具有低反射率和高透光率的同时，还同时实现高耐刮擦性和防污性，并且还能够提高显示装置的屏幕清晰度。
技术介绍
通常，诸如PDP或LCD的平板显示装置配备有用于使从外部入射的光的反射最小化的抗反射膜。作为使光的反射最小化的方法，存在以下方法：使填料如细陶瓷颗粒分散在树脂中，并涂覆在基底膜上以赋予不规则性的方法...
【技术保护点】
1.一种抗反射膜，所述抗反射膜在示出使用Cu-Kα射线的X射线反射率测量的结果的傅里叶变换分析结果的图中，在距离表面35nm至55nm的厚度处表现出一个极值，并且在距离表面85nm至105nm的厚度处表现出一个极值。/n
【技术特征摘要】
20160309 KR 10-2016-0028468;20160311 KR 10-2016-001.一种抗反射膜，所述抗反射膜在示出使用Cu-Kα射线的X射线反射率测量的结果的傅里叶变换分析结果的图中，在距离表面35nm至55nm的厚度处表现出一个极值，并且在距离表面85nm至105nm的厚度处表现出一个极值。
2.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中
示出所述抗反射膜的使用Cu-Kα射线的X射线反射率测量的结果的傅里叶变换分析结果的图表示y轴的傅里叶变换幅度相对于x轴的膜厚度。
3.根据权利要求1所述的抗反射膜，
其中所述使用Cu-Kα射线的X射线反射率测量是使用波长为的Cu-Kα射线对尺寸为1cm×1cm(宽度×长度)的抗反射膜进行的。
4.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中
所述抗反射膜包括硬涂层和形成在所述硬涂层上的低折射率层，并且
距离表面35nm至55nm的厚度和85nm至105nm的厚度各自为距离所述低折射率层的表面的厚度。
5.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中
所述抗反射膜包括硬涂层和低折射率层，所述低折射率层包含粘合剂树脂以及分散于所述粘合剂树脂中的中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒。
6.根据权利要求5所述的抗反射膜，其中
与所述中空无机纳米颗粒相比，所述实心无机纳米颗粒更多地分布于靠近所述硬涂层与所述低折射率层之间的界面。
7.根据权利要求6所述的抗反射膜，其中
全部实心无机纳米颗粒的70体积％或更多存在于距离所述硬涂层与所述低折射率层之间的界面的所述低折射率层总厚度的50％以内。
8.根据权利要求6所述的抗反射膜，其中
与所述实心无机纳米颗粒相比，全部中空无机纳米颗粒的30体积％或更多存在于沿所述低折射率层的厚度方向距离所述硬涂层与所述低折射率层之间的界面更远的距离处。
9.根据权利要求6所述的抗反射膜，其中
全部实心无机纳米颗粒的70体积％或更多存在于距离所述硬涂层与所述低折射率层之间的界面的所述低折射率层总厚度的30％以内。
10.根据权利要求9所述的抗反射膜，其中
全部中空无机纳米颗粒的70体积％或更多存在于距离所述硬涂层与所述低折射率层之间的界面的超过所述低折射率层总厚度的30％的区域。
11.根据权利要求6所述的抗反射膜，其中
所述低折射率层包括包含全部实心无机纳米颗粒的70体积％或更多的第一层和包含全部中空无机纳米颗粒的70体积％或更多的第二层，并且
与所述第二层相比，所述第一层位于更靠近所述硬涂层与所述低折射率层之间的界面。
12.根据权利要求11所述的抗反射膜，其中
全部实心无机纳米颗粒的70体积％或更多存在于距离所述硬涂层与所述低折射率层之间的界面的所述低折射率层总厚度的50％以内。
13.根据权利要求5所述的抗反射膜，其中
所述实心无机纳米颗粒的密度比所述中空无机纳米颗粒高0.50g/cm3...
【专利技术属性】
技术研发人员：边真锡，具滋弼，金芙敬，张锡勋，张影来，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国;KR
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