一种超硬耐磨减反射膜结构制造技术

本实用新型专利技术涉及触摸屏盖板减反射膜技术领域，公开了一种超硬耐磨减反射膜结构，包括在基板上依次层叠的第一氮氧化硅层、氮化硅层及第二氮氧化硅层，所述第一氮氧化硅层的厚度为20～150nm，所述氮化硅层的厚度为20～150nm，所述第二氮氧化硅层的厚度为80～120nm。本实用新型专利技术的减反射膜通过采用三层折射率不同的氮氧化硅层及氮化硅层来实现减反射，结合氮氧化硅及氮化硅的高硬度特性，提高透光率的同时，大大增加了减反射膜的硬度，经久耐磨，使用寿命长。

【技术实现步骤摘要】
一种超硬耐磨减反射膜结构
本技术应用于触摸屏盖板的减反射膜层，具体的说涉及一种超硬耐磨减反射膜结构。
技术介绍
减反射膜，又称增透膜，它的主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光，从而增加这些元件的透光量，减少或消除系统的杂散光，减反射膜是应用最广、产量最大的一种光学薄膜。现有减反射膜的种类多种多样，其减反射效果也千差万别，但是现有的减反射膜大多通过单膜层或双膜层来实现增透效果，不仅增透效果较差，并且还存在硬度较低、耐磨性能较差等缺点，使用过久后容易发生磨损的现象，使用寿命较短。
技术实现思路
针对现有技术中的不足，本技术要解决的技术问题在于提供了一种超硬耐磨减反射膜结构。为解决上述技术问题，本技术通过以下方案来实现：一种超硬耐磨减反射膜结构，包括在基板上依次层叠的第一氮氧化硅层、氮化硅层及第二氮氧化硅层，所述第一氮氧化硅层的厚度为20～150nm，所述氮化硅层的厚度为20～150nm，所述第二氮氧化硅层的厚度为80～120nm。进一步的，所述第一氮氧化硅层的折射率通过调节材料中的氮氧比例来实现，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种超硬耐磨减反射膜结构，其特征在于：包括在基板（10）上依次层叠的第一氮氧化硅层（20）、氮化硅层（30）及第二氮氧化硅层（40），所述第一氮氧化硅层（20）的厚度为20～150nm，所述氮化硅层（30）的厚度为20～150nm，所述第二氮氧化硅层（40）的厚度为80～120nm。/n

【技术特征摘要】
1.一种超硬耐磨减反射膜结构，其特征在于：包括在基板（10）上依次层叠的第一氮氧化硅层（20）、氮化硅层（30）及第二氮氧化硅层（40），所述第一氮氧化硅层（20）的厚度为20～150nm，所述氮化硅层（30）的厚度为20～150nm，所述第二氮氧化硅层（40）的厚度为80～120nm。


2.根据权利要求1所述的超硬耐磨减反射膜结构，其特征在于：所述第一氮氧化硅层（20）的折射率通过调节材料中的氮氧比例来实现，且其折射率为1.7～2.0。


3.根据权利要求1所述的超硬耐磨减反射膜结构，其特征在于：所述氮化硅层（30）的折射率大于2.0。


4.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：王立新，
申请(专利权)人：普发玻璃深圳有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44