一种高损伤阈值激光薄膜工艺技术方法技术

本发明专利技术涉及一种高损伤阈值激光薄膜工艺技术方法，属于镀制光学薄膜领域。本发明专利技术为克服常规激光薄膜镀制技术在可见光和近红外波段镀制激光薄膜抗激光损伤阈值较低的缺点，通过以石英或K9作为镀膜基底，以蓝宝石作衬底膜料M，以HfO2作高折射率膜料H，以SiO2作低折射率膜料L，利用TFC给出各层膜系的几何厚度和膜系顺序计算结果；超声波清洗和加温烘烤所述镀膜基底；在光学膜层粘接打底工艺和应力匹配工艺中，将三种膜料依次放入电子枪蒸发源坩锅舟内，然后按各层膜系的几何厚度和膜系顺序完成镀膜工艺；在镀膜前和镀膜过程中用离子源轰击所述镀膜基底。本发明专利技术的膜层坚硬牢固，抗激光损伤性能优良，通透性能好，并能在野外恶劣环境长久使用。

【技术实现步骤摘要】
一种高损伤阈值激光薄膜工艺技术方法
本专利技术属于镀制光学薄膜领域，具体涉及一种高损伤阈值激光薄膜工艺技术方法。
技术介绍
在现有技术中，光学薄膜主要分为减反射膜、高反膜、分光膜、截止滤光膜、带通滤光膜等。其中激光薄膜作为在可见光和近红外的激光波段，提高规定波段内光能量透过率(或反射率)的最佳方法，已经成为光学薄膜所有膜系中应用最广、使用最多、产量最大的膜系。减反射膜又称增透膜，是沉积在光学材料元件表面以减少表面反射，增加光学系统透过率的光学薄膜。随着现代光学的发展，光学系统的应用日益増多，越来越多的光学元器件要求工作波段在0.4um～2um的可见光和近红外的指定范围，这就使得可见光和近红外的高损伤阈值激光增透膜的研制成为光学薄膜技术研制中的重要组成部分。日常生活中的一些光学元件都通过镀减反射膜来提高光能量，增加光线透过率；如照相机、摄像机、显微镜，夜视成像设备等等；而现代综合性光学仪器往往一机多用，光学系统的工作光波段可能要覆盖紫外、可见和红外等多波段，这样的光学系统比较复杂，光学零件很多，能量损失也很大，尤其是在夜视系统、微光系统、CCD、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高损伤阈值激光薄膜工艺技术方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：/n步骤一：以石英或K9作为镀膜基底，以蓝宝石(Al

【技术特征摘要】
1.一种高损伤阈值激光薄膜工艺技术方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：
步骤一：以石英或K9作为镀膜基底，以蓝宝石(Al2O3)作衬底膜料M，以HfO2作高折射率膜料H，以SiO2作低折射率膜料L，根据各膜层的光学特性，利用光学薄膜设计软件TFC优化分析各膜料的光学特性，给出相应的光谱曲线图；并给出各层膜系的几何厚度和膜系顺序计算结果填入几何厚度值列表中；
步骤二：按超声波清洗顺序对所述镀膜基底进行超声波清洗后，在真空环境下，加温烘烤所述镀膜基底；
步骤三：在光学膜层粘接打底工艺和应力匹配工艺中，根据前述计算出的各层膜系的几何厚度和膜系顺序，将M(Al2O3)、H(HfO2)、L(SiO2)三种膜料依次放入电子枪蒸发源坩锅舟内，然后按各层膜系的几何厚度和膜系顺序完成镀膜工艺。
步骤四：在离子源辅助蒸镀工艺中，在镀膜前和镀膜过程中用离子源轰击所述镀膜基底；在整个镀膜过程中，保持上述离子源参数不变，一直让其产生离子束轰击所述镀膜基底到镀膜完成。


2.如权利要求1所述的高损伤阈值激光薄膜工艺技术方法，其特征在于，所述镀膜基底为折射率n＝1.45的石英基底，或折射率n＝1.52的K9基底。


3.权利要求1所述的高损伤阈值激光薄膜工艺技术方法，其特征在于，所述作衬底膜料的蓝宝石(Al2O3)的折射率n＝1.6，所述作高折射率膜料的HfO2的折射率n＝2，所述作低折射率膜料的SiO2的折射率n＝1.45。


4.如权利要求1所述的高损伤阈值激光薄膜工艺技术方法，其特征在于，所述各层膜系的几何厚度和膜系顺序为：M6.0nm、L66.59nm、H28.05nm、L53.15nm、H110.55nm、L137.55nm，或M5.9nm、L66.4nm、H28.10nm、L53.00nm、H110.60nm、L137.50nm，或M6.1nm、L66.6nm、H28.00nm、L53.20nm、H110.50nm、L137.59nm。


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【专利技术属性】
技术研发人员：王平秋，魏涛，林先勇，何开伦，杨柳，张志斌，王金龙，于清，代礼密，姚德武，游中华，刘卫强，余小燕，杨洋，何坚，吴杨海，邓漾，赵龙，
申请(专利权)人：西南技术物理研究所，成都光明光学元件有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51