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本发明涉及一种高损伤阈值激光薄膜工艺技术方法，属于镀制光学薄膜领域。本发明为克服常规激光薄膜镀制技术在可见光和近红外波段镀制激光薄膜抗激光损伤阈值较低的缺点，通过以石英或K9作为镀膜基底，以蓝宝石作衬底膜料M，以HfO2作高折射率膜料H，以...该专利属于西南技术物理研究所;成都光明光学元件有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西南技术物理研究所;成都光明光学元件有限公司授权不得商用。