【技术实现步骤摘要】
一种排气取样装置及湿法清洗机
本技术涉及半导体
，特别涉及一种排气取样装置及湿法清洗机。
技术介绍
在晶圆制作过程中，需要去除晶圆表面上的玷污，这些玷污包括：颗粒物、有机残留、金属污染物、以及自然氧化层等，去除玷污的常用方法是湿法清洗。湿法清洗的原理主要是利用H2SO4(硫酸)和H2O2(双氧水)组成的混合液腐蚀、氧化玷污，从而达到清洗的目的。常用的湿法清洗机的型号包括DNSSU3100和DNSSU3200，湿法清洗机装有用于监控排气变化的排气取样装置，但是由于湿法清洗机中酸性、碱性气体共用一路排气管，容易在排气取样装置的取样口发生化学反应产生结晶，且由于排气取样装置的取样口管径小容易堆积结晶，导致排气取样装置检测到排气管内排气气压低并发出排气低报警，最终导致湿法清洗机停止运转，晶圆被滞留在湿法清洗机的反应室内，需要手动将晶圆传出反应室，影响了湿法清洗机的工作效率。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种排气取样装置及湿法清洗机，以解决现有技术中湿法清洗机排气低报警频率高、工作效率低的问题。具体
【技术保护点】
1.一种排气取样装置，用于监控湿法清洗机的排气变化，其特征在于，包括取样管，所述取样管具有相对的取样端和排气端，所述取样端位于湿法清洗机的排气管内并对所述排气管内的排气进行取样，所述取样端包括呈一定夹角的第一管路和第二管路，所述第二管路的一端与所述排气端的一端连接，所述第二管路的另一端与所述第一管路的一端连接，所述第一管路的另一端朝向所述排气管内的排气方向。/n
【技术特征摘要】
1.一种排气取样装置，用于监控湿法清洗机的排气变化，其特征在于，包括取样管，所述取样管具有相对的取样端和排气端，所述取样端位于湿法清洗机的排气管内并对所述排气管内的排气进行取样，所述取样端包括呈一定夹角的第一管路和第二管路，所述第二管路的一端与所述排气端的一端连接，所述第二管路的另一端与所述第一管路的一端连接，所述第一管路的另一端朝向所述排气管内的排气方向。
2.如权利要求1所述的排气取样装置，其特征在于，所述第一管路的另一端为取样口，所述取样口为斜口。
3.如权利要求1所述的排气取样装置，其特征在于，还...
【专利技术属性】
技术研发人员：蒋峥勇，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31
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