【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
下面涉及磁共振领域，并发现其在磁共振成像中的具体应用，将结合具体参考进行描述。但是，还发现其在磁共振光谱学和其它受益于幅值精确已知的主B0磁场的技术中的应用。
技术介绍
在磁共振成像中，产生暂时恒定的主B0磁场，其至少在视场中是空间均匀的。对于较大主B0磁场强度例如3特斯拉或更高，想获得足够的均匀性很困难。主B0磁场中的非均匀性会产生各种图像赝像。例如，在回波平面成像中，主磁场的非均匀性会导致重建图像中的像素偏移。设计时为获得缩减硬件成本、扫描仪的更紧密性、对物体或患者的更开放通路等等的折衷也会导致磁场的非均匀性。主B0磁场的非均匀性可以利用有效的匀场调整而被改进，其中专用的匀场(shim)线圈产生辅助的或匀场磁场来补偿主磁体所产生磁场的非均匀性。主磁体通常是超导的，而匀场线圈通常是电阻线圈。在一个实施例中，每个匀场线圈产生具有空间分布的磁场，其功能上垂直于其它匀场线圈产生的磁场。例如，每个匀场线圈可以产生具有对应于勒让德多项式或球面谐波分量的空间分布的磁场。为了校准匀场电流，在不给匀场线圈施加电压的情况下，磁场探针或其它设备，或扫描仪执行的专用磁共振序列被用...
【技术保护点】
一种磁共振成像方法，包括：确定主Ｂ↓［０］磁场响应于以所选的匀场电流给一个或多个匀场线圈（６０）供能的幅值偏移；以该所选的匀场电流给该一个或多个匀场线圈（６０）供能；和在供能过程中执行校正以对该确定的主Ｂ↓［０］磁场的幅值偏移进行校正。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：WR丹尼尔斯，DL福克萨尔，GD德米斯特，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]
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