检查装置制造方法及图纸

技术编号:2632028 阅读:142 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种具有检查头的检查装置,该检查头可在至少两个方向上相对于导向底面移动。该导向底面支撑待检查的基底,其中该基底具有至少两个印刷层,该印刷层相互之间至少部分重叠地连续敷设。检查头具有照明装置和检测装置,该检测装置检测被基底反射或穿透基底的电磁辐射并传送给分析装置,利用该分析装置可以检测基底(30)的缺陷。检查头(12)必要时还具有锥形扩口的通道(24),在其内圆周上设置多个发光元件,检测装置(14)包括具有光学系统的数字照相机(18),其检测基底(30)上小于30微米的分辨率,通过运动装置在拍摄周期中控制导向底面(32)和检查头(12)之间的相对运动,在该拍摄周期中将相邻的或重叠的单幅图像组合成基底(30)的一幅整体图像。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种根据权利要求1前序部分的检查装置
技术介绍
这种检查装置用于检验尤其是用厚层技术敷设的电路的质量。这种电路通常以多个、例如20个层借助丝网印刷技术敷设。在此,重要的是例如不会由于掩模缺陷(Maskenfehlern)而敷设有缺陷的(fehlerhaft)层。为了检查这一点,已知借助电测试装置详细测试电路的功能。其缺点是,大多数情况下,必须敷设所有层,然后才能进行检验。如果测试确定有缺陷,则只存在这样的可能性,即拒绝所涉及的芯片,这带来相应的成本劣势。此外,还建议在敷设各层的过程中进行光学检验。该光学检验例如可以可视地、即通过受过训练的操作人员进行。但是,还已知通过适当的光学检测装置检测所印刷的层的图像并与额定图像进行比较。如果偏差太大则剔出所涉及的芯片。已知很多可以实现和改善这种检查装置的解决方案。一个例子是US-PS 4389669。在这种解决方案中,在通过使用照相机,利用光学检测装置、即显微镜进行光学检验,由于这个原因该光学检查也适用于检测芯片。但是,在客户要求对电子电路或芯片进行迅速和可靠的检验时,这样的解决方案需要很高的设备技术开销。US-PS 524本文档来自技高网...

【技术保护点】
具有检查头的检查装置,其中所述检查头可在至少两个方向上相对于导向底面移动,所述导向底面支撑待检查的基底,其中所述基底具有至少一个敷设的、尤其是印刷的层,所述检查头包括照明装置和检测装置,其中所述检测装置检测被基底反射的或穿透基底的电磁辐射并将其传送到分析装置,利用所述分析装置可以检测所述基底(基底(30)的缺陷)与预定基底的偏差或与预定基底(30)一致,其特征在于,所述检测装置(14)包括具有光学系统的数字照相机(18),其检测基底(30)上小于200微米、尤其是小于30微米的分辨率,并且运动装置在拍摄周期期间控制导向底面(32)和检查头(12)之间的相对运动,其中在所述拍摄周期中相邻的或重叠...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:海因里希斯特恩格
申请(专利权)人:斯特拉图斯影像有限公司
类型:发明
国别省市:DE[德国]

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