镀敷造形物的制造方法技术

本发明专利技术提供一种镀敷造形物的制造方法，能够抑制在使用感光性组合物来形成作为镀敷造形物形成用的铸模使用的图案时的该图案中的底脚，同时能够使用所述铸模形成对基板上的金属表面的密合性良好的镀敷造形物。使用包含规定的结构的含硫化合物及/或含氮化合物的感光性组合物形成用作镀敷造形物形成用的铸模的抗蚀剂图案，并在形成镀敷造形物前，对从作为铸模使用的抗蚀剂图案的非抗蚀剂部中所露出的、由金属构成的表面实施灰化。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】镀敷造形物的制造方法
本专利技术涉及将使用感光性组合物形成的图案用作铸模的镀敷造形物的制造方法。
技术介绍
目前，光电加工(photofabrication)已经成为精密微细加工技术的主流。光电加工是指，将光致抗蚀剂组合物涂布在被加工物表面从而形成光致抗蚀剂层，利用光刻技术使光致抗蚀剂层图案化，并将图案化后的光致抗蚀剂层(光致抗蚀剂图案)作为掩模进行化学蚀刻、电解蚀刻，或者进行以电镀为主体的电铸成形(electroforming)等，来制造半导体封装等各种精密部件的技术的总称。此外，近年来，随着电子设备的小型化，半导体封装的高密度安装技术不断推进，正在谋求基于封装的多引脚薄膜安装化、封装尺寸的小型化、倒装芯片方式的2维安装技术、3维安装技术来提高安装密度。在这样的高密度安装技术中，例如封装上突出的凸块等的突起电极(安装端子)、将从晶圆上的外围端子延伸的再布线与安装端子相连接的金属柱等作为连接端子而被高精度地配置在基板上。在如上所述的光电加工中使用了光致抗蚀剂组合物，作为那样的光致抗蚀剂组合物，例如公知有包含产酸剂的化学放大型光致本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀敷造形物的制造方法，包括：/n准备在表面具备金属层的基板以及感光性组合物的工序；/n在所述基板上涂布所述感光性组合物，形成感光性组合物膜的工序；/n对所述感光性组合物膜进行曝光的工序；/n将曝光后的所述感光性组合物膜显影，以使所述基板中的所述金属层的至少一部分露出的方式形成图案的工序；/n将所述图案作为铸模来形成镀敷造形物的工序，/n该镀敷造形物的制造方法的特征在于，/n所述感光性组合物包含含硫化合物及/或含氮化合物，/n所述含硫化合物包含与构成所述金属层的金属配位的硫原子，/n所述含氮化合物包含构成含氮芳香族杂环的氮原子，该含氮芳香族杂环与构成所述金属层的金属配位，/n所述镀敷造形...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180327 JP 2018-0603441.一种镀敷造形物的制造方法，包括：
准备在表面具备金属层的基板以及感光性组合物的工序；
在所述基板上涂布所述感光性组合物，形成感光性组合物膜的工序；
对所述感光性组合物膜进行曝光的工序；
将曝光后的所述感光性组合物膜显影，以使所述基板中的所述金属层的至少一部分露出的方式形成图案的工序；
将所述图案作为铸模来形成镀敷造形物的工序，
该镀敷造形物的制造方法的特征在于，
所述感光性组合物包含含硫化合物及/或含氮化合物，
所述含硫化合物包含与构成所述金属层的金属配位的硫原子，
所述含氮化合物包含构成含氮芳香族杂环的氮原子，该含氮芳香族杂环与构成所述金属层的金属配位，
所述镀敷造形物的制造方法还包括：在形成图案的所述工序与形成镀敷造形物的工序之间，对露出的...

【专利技术属性】
技术研发人员：桃泽绫，黑岩靖司，片山翔太，山本悠太，海老泽和明，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP