【技术实现步骤摘要】
一种钯连接的双结GaAs/Si肖特基结太阳电池及其制备方法
本专利技术属于太阳电池的
,特别涉及一种钯连接的双结GaAs/石墨烯肖特基结太阳电池及其制备方法。
技术介绍
地球人口数量的不断增长、生态环境污染的加剧以及人类对能源需求的不断增加,使得人们对可再生清洁能源的开发激增。而太阳能是自然界中分布最为广泛,总量最大的清洁能源,从而引起了人们的极大研究兴趣。目前市场上商用的太阳电池以p-n结为基础制造而成,然而p-n结通常需要高温离子扩散和昂贵的离子注入工艺才能将掺杂剂引入基片中。其制备工艺复杂,且生产过程中污染和能耗高,这与清洁能源的目标相矛盾。为此,人们将石墨烯等二维材料与半导体基片相结合制备出了肖特基结太阳电池,这类电池具有制备工艺简单、成本低以及生产过程中污染和能耗低的优点而收到了广泛关注。经过近十年的努力,单结肖特基结太阳电池效率得到了巨大的提升,然而其进一步提升的空间是有限的。
技术实现思路
为了克服上述技术存在的不足之处,本专利技术的首要目的在于提供一种钯连接的双结GaAs/S ...
【技术保护点】
1.一种钯连接的双结GaAs/Si肖特基结太阳电池,其特征在于:由下至上依次为Au背电极、Si衬底、石墨烯层、钯纳米颗粒、GaAs衬底、石墨烯层、银浆顶电极;/n钯纳米颗粒大小为10-100nm。/n
【技术特征摘要】
1.一种钯连接的双结GaAs/Si肖特基结太阳电池,其特征在于:由下至上依次为Au背电极、Si衬底、石墨烯层、钯纳米颗粒、GaAs衬底、石墨烯层、银浆顶电极;
钯纳米颗粒大小为10-100nm。
2.根据权利要求1所述的一种钯连接的双结GaAs/Si肖特基结太阳电池,其特征在于:所述GaAs外延层晶向为(100),掺杂浓度为1×1017-2×1018/cm3,所述Si外延层晶向为(100),掺杂浓度为5×1017-5×1018/cm3。
3.根据权利要求1所述的一种钯连接的双结GaAs/Si肖特基结太阳电池,其特征在于:Au背电极的厚度为30-300nm,Si衬底厚度为50-500μm,GaAs衬底厚度为20-500μm,石墨烯层的厚度为1-7层原子厚度,导电银浆顶电极厚度为0.2-2μm。
4.权利要求1-3任一项所述的一种钯连接的双结GaAs/Si肖特基结太阳电池的制备方法,其特征在于,包括如下制备步骤:
(1)采用电子束蒸发法在Si衬底背面蒸镀一层Au作为背电极,蒸镀结束后退火处理;
(2)用金刚笔将GaAs、Si衬底片裂成1-4cm2小片,并清洗;
(3)通过旋涂的方式将含有聚苯乙烯以及聚(2-乙烯基吡啶)(PS-b-P2VP)的邻二甲苯溶液旋涂至GaAs衬底上,随后将衬底浸泡在Na2PdCl4溶液中,最后通过Ar等离子体处理将PS-b-P2VP去除,在GaAs上得到钯纳米颗粒;
(4)将泡取好的石墨烯进行转移,石墨烯漂浮在水面,用镊子夹住GaAs...
【专利技术属性】
技术研发人员:李国强,张志杰,余粤锋,林静,
申请(专利权)人:华南理工大学,
类型:发明
国别省市:广东;44
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