光电流和光电压测量池制造技术

本发明专利技术的光电流和光电压测量池属于功能材料光电特性测量装置的技术领域。结构有池体（１），其侧面与导气管（２）连通；在池体（１）和池盖（３）之间装有真空胶垫（６）；上电极（１１）固定安装在池盖（３）中心的入光孔的下面并与高频插座（４）芯电极电连接，底电极（１４）与高频插座（４）的外壳电连接；石英透镜（７）密封粘接在入光孔处；样品支架（１０）下端有中心带孔的平板能使升降控杆（８）从孔中穿过、上端与底电极（１４）固定相接，弹簧（９）安装在底电极（１４）和样品支架（１０）的平板之间。本发明专利技术装卸测试样品方便；能在真空下进行光电特性的测量；对被测样品无损伤、无污染，被测量的样品可回收。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的光电流和光电压测量池属于功能材料光电特性的测量装置的技术 领域，适用于材料科学、信息科学、新能源开发及环境保护等领域的光电特性的 测量和研究。
技术介绍
新型光电材料的制备、开发和应用对于开发新能源、进行环境保护以及发展 信息科学有着重要的意义。在新型光电材料的制备和光电特性的研究中，材料的 光电特性测量是非常重要的。以往光电特性研究和测量一般使用下列两类光电测 量池1) 对单晶或固体粉末压片材料的光电特性，是在测试样品的上面镀上金属半透膜(常用Au或Al)，测试样品下面与金属相接触，构成"三明治"结构进行光电测量的。由于金属半透膜制备难以控制，透光率再现性不好，并且，制备 电极的操作麻烦，测量信噪比低。2) 是基于光电化学的三电极(工作电极、辅助电极和参比电极)测量体系，测量电极的制备比较复杂，并且，由于测量中存在电介质溶液，对测量结果有一 定的影响。更不能够研究真空条件下的光电特性。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是克服上述的
技术介绍
的不足，设计出光电流、光 电压池，使用新的电极结构，电极的制作和安装简单，测量池透光率好，并且， 拓展了真空条件下测量的功能，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光电流和光电压测量池，结构包括池体（１）、样品支架（１０）、上电极（１１）、底电极（１４），其特征在于，结构还包括池盖（３）、真空胶垫（６）、高频插座（４）、石英透镜（７）、升降控杆（８）、弹簧（９）；所述的池体（１）是底端封闭上端带有凸沿的筒状体，其侧面开孔与导气管（２）连通；池体（１）上端安装池盖（３），在池体（１）上端和池盖（３）之间相接触的周边装有真空胶垫（６），螺杆（５）穿过池盖（３）和池体（１）上端凸沿的一一相对的螺孔能压紧真空胶垫（６），使池体（１）内的空间密封；所述的高频插座（４）密封装在池盖（３）上，上电极（１１）固定安装在池盖（３）中心的通透圆孔的下面并与高频插座（４）...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王德军，谢腾峰，杨敏，彭亮，
申请(专利权)人：吉林大学，
类型：发明
国别省市：82[中国|长春]