测量微量电容变化的电路制造技术

本发明专利技术属于电容检测技术领域，涉及一种测量微量电容变化的电路，包括基准信号发生电路，电桥电路，第一放大整形电路，第二放大整形电路，信号比较电路，其中，基准信号发生电路，生成用以驱动电桥电路的对称的交流信号，接在第二放大整形电路的输入端；待测电容和基准电容分别接在电桥电路的两个桥臂上，电桥电路的驱动信号即为所述的基准信号，其输出信号即为待测信号，待测信号接入第一放大整形电路的输入端；两个放大整形电路的输出分别接在信号比较电路的两个输入端；信号比较电路用于根据两个放大整形电路的输出信号的相位信息，判断待测电容是否发生变化。本发明专利技术的电路结构新颖，体积小，具有高可靠性，对环境要求低，无须特殊元件筛选工艺，无须调试的优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于电容检测
，具体涉及一种定性、定量测量微量电容变化的电路。
技术介绍
目前，电容信号的测量技术主要有一下几种1、 充/放电电容测量电路。2、 AC电桥电容测量电路。3、 交流锁相放大电容测量电路。4、 基于V/T变换的电容测量电路。5、 基于电荷放大原理的电容测量电路。6、 振荡法测量电路。综述，要得到较高精度的微电容量测量，要求测量环境非常稳定，这限制了仪器的 使用范围。其测量原理都属于定量测量，因而测量设备的使用的元件要求严格筛选、匹 配，工艺复杂，成本很高，不利于实现大规模的现代化流水线作业生产。
技术实现思路
本专利技术的目的是克服现有技术的上述不足，提供一种结构新颖，体积小，具有高可 靠性，对环境要求低，无须特殊元件筛选工艺，无须调试的特点，便于实现大规模的现 代化流水线作业生产的测量微量电容变化的电路。本专利技术是以下述技术方案解决上述技术问题的一种测量微量电容变化的电路，包括基准信号发生电路，电桥电路，第一放大整形 电路，第二放大整形电路，信号比较电路，其中，基准信号发生电路，生成用以驱动电桥电路的对称的交流信号，并且接在第二放大整形电路的输入端；电本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种测量微量电容变化的电路，包括基准信号发生电路，电桥电路，第一放大整形电路，第二放大整形电路，信号比较电路，其中，　基准信号发生电路，生成用以驱动电桥电路的对称的交流信号，并且接在第二放大整形电路的输入端；　电桥电路桥臂上分别连接有电容器，待测电容和基准电容分别接在电桥电路的两个桥臂上，所述电桥电路的驱动信号即为所述的基准信号，其输出信号即为反应待测电容变化的待测信号，所述的待测信号接入第一放大整形电路的输入端；　两个放大整形电路的输出分别接在信号比较电路的两个输入端；　所述的信号比较电路用于根据两个放大整形电路的输出信号的相位信息，判断待测电容是否发生变化。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：秦旭东，鲍云竹，
申请(专利权)人：天津菲特测控仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：12[中国|天津]