【技术实现步骤摘要】
一种高纯硅片自动清洗装置
本技术涉及自动清洗设备
,具体涉及一种高纯硅片自动清洗装置。
技术介绍
专用清洗是高端可控硅制造的重要环节。目前,在专用加工过程中的清洗过程是人工的,这个过程主要有以下不足:1)人工要对清洗过程加水、放水反复操作几十次以上,枯燥乏味;2)人工清洗操作的时长、次数只能凭操作工的个人判断;3)人工长时间操作易产生疲劳;4)人工操作对于清洗效果无法做到精确控制;5)人工清洗时超声波污染会对人体健康损害。人工操作既枯燥、占用人工成本,又不能实现清洗过程的自动精确控制。
技术实现思路
本技术针对现有技术中存在的技术问题,提供一种高纯硅片自动清洗装置,其能实现自动清洗,解决了人工成本高、人员劳动强度大的问题,防止超声波对人员造成伤害,清洗效果好。本技术解决上述技术问题的技术方案如下:一种高纯硅片自动清洗装置,包括控制单元、清洗槽、超声波发生器,所述清洗槽底部固定设有换能器,所述超声波发生器与所述换能器信号连接,所述控制单元与所述超声波发生器信号连接;还包括冷水水路、热水水路 ...
【技术保护点】
1.一种高纯硅片自动清洗装置,其特征在于,包括控制单元、清洗槽、超声波发生器,所述清洗槽底部固定设有换能器,所述超声波发生器与所述换能器信号连接,所述控制单元与所述超声波发生器信号连接;还包括冷水水路、热水水路,所述冷水水路一端、所述热水水路一端均连通所述清洗槽,其另一端分别连接冷水源、热水源;还包括排污管,所述排污管的开口设置在所述清洗槽的下部;所述冷水水路、所述热水水路、所述排污管中分别设有电磁阀,所述电磁阀与所述控制单元的输出信号连接;所述清洗槽内设有高低液位开关,所述高低液位开关与所述控制单元的输入信号连接;所述排污管中设有排污泵,所述排污泵与所述控制单元的输出信号连接。/n
【技术特征摘要】
1.一种高纯硅片自动清洗装置,其特征在于,包括控制单元、清洗槽、超声波发生器,所述清洗槽底部固定设有换能器,所述超声波发生器与所述换能器信号连接,所述控制单元与所述超声波发生器信号连接;还包括冷水水路、热水水路,所述冷水水路一端、所述热水水路一端均连通所述清洗槽,其另一端分别连接冷水源、热水源;还包括排污管,所述排污管的开口设置在所述清洗槽的下部;所述冷水水路、所述热水水路、所述排污管中分别设有电磁阀,所述电磁阀与所述控制单元的输出信号连接;所述清洗槽内设有高低液位开关,所述高低液位开关与所述控制单元的输入信号连接;所述排污管中设有排污泵,所述排污泵与所述控制单元的输出信号连接。
2.根据权利要求1所述一种高纯硅片自动清洗装置,其特征在于,所述热水水路中设有温度传感器,所述温度传感器与所述控制单元的模拟量输入信号连接。
3.根据权利要求1所述一种高纯硅片自动清洗装置,其特征在于,所述热水水路中还设有加热器,所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:马瑜辉,
申请(专利权)人:襄阳三圭电子有限公司,
类型:新型
国别省市:湖北;42
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