一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，包括反应室，所述反应室顶部贯通固定设有进气管，所述进气管一端部贯通固定连接有气源室，所述反应室一侧底部贯通固定设有出气管，所述出气管一端部固定连接有真空泵，所述反应室底部固定设有驱动电机，通过设置驱动电机，驱动电机可以带动主动皮带轮旋转，主动皮带轮可以通过皮带带动从动皮带轮旋转，从动皮带轮可以通过轴杆带动凸形转盘旋转，进而可以带动片架旋转，可以增加单晶硅与等离子体的接触均度，伸缩定位杆可以对定位圆环进行支撑固定，通过旋转螺纹筒调节伸缩定位杆的长度即可，便于拆卸固定，适合不同直径的反应室使用，套筒通过固定螺栓固定在片架顶部外侧，方便拆卸安装。

【技术实现步骤摘要】
一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置
本专利技术涉及一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，属于传感器部件加工装置

技术介绍
传感器用单晶硅在加工过程中，均需对其进行刻蚀处理，现有的刻蚀加工过程中，其往往通过将多个单晶硅叠放在片架上，并通过向片架所在位置导入反应气体，并使得反应气体在电场环境下产生等离子体，对单晶硅进行刻蚀，片架在刻蚀过程中通常需要进行旋转以增加单晶硅与等离子体的接触均度，然而片架的旋转可能导致其发生偏移，从而造成单晶硅与等离子之间的接触不均，进而影响其刻蚀效果。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题克服现有的缺陷，提供一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，可以对片架进行定位，可以防止片架刻蚀加工时晃动，影响刻蚀效果，通过设置气源室，气源室可以通过进气管向反应室内腔充入反应气体，便于刻蚀操作，通过设置驱动电机，驱动电机可以带动主动皮带轮旋转，主动皮带轮可以通过皮带带动从动皮带轮旋转，从动皮带轮可以通过轴杆带动凸形转盘旋转，进而可以带动片架旋转，可以增加单晶硅与等离子体的接触均度，通过设本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，包括反应室（1），其特征在于：所述反应室（1）顶部贯通固定设有进气管（2），所述进气管（2）一端部贯通固定连接有气源室（3），所述反应室（1）一侧底部贯通固定设有出气管（4），所述出气管（4）一端部固定连接有真空泵（5），所述反应室（1）底部固定设有驱动电机（6），所述驱动电机（6）传动轴端部固定设有主动皮带轮（7），所述反应室（1）内腔底部固定设有底座（8），所述底座（8）中部设有槽口（9），所述槽口（9）内腔通过转轴转动设有凸形转盘（10），所述凸形转盘（10）底部固定设有轴杆（11），所述轴杆（11）底部固定设有从动皮带轮（12），所述从动皮...

【技术特征摘要】
1.一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，包括反应室（1），其特征在于：所述反应室（1）顶部贯通固定设有进气管（2），所述进气管（2）一端部贯通固定连接有气源室（3），所述反应室（1）一侧底部贯通固定设有出气管（4），所述出气管（4）一端部固定连接有真空泵（5），所述反应室（1）底部固定设有驱动电机（6），所述驱动电机（6）传动轴端部固定设有主动皮带轮（7），所述反应室（1）内腔底部固定设有底座（8），所述底座（8）中部设有槽口（9），所述槽口（9）内腔通过转轴转动设有凸形转盘（10），所述凸形转盘（10）底部固定设有轴杆（11），所述轴杆（11）底部固定设有从动皮带轮（12），所述从动皮带轮（12）与主动皮带轮（7）之间连接有皮带（13），所述凸形转盘（10）顶部固定设有片架（14），所述片架（14）顶部外侧套设有套筒（15），所述套筒（15）外侧周向等距固定设有定位杆（16），所述定位杆（16）端部固定设有U形架（17），所述U形架（17）内腔通过转轴转动设有导向轮（18），所述导向轮（18）外围设有定位圆环（19），所述定位圆环（19）外侧周向等距固定设有伸缩定位杆（20），所述伸缩定位杆（20）包括螺纹杆（21），所述螺纹杆（21）一端套设有螺纹筒（22），所述螺纹...

【专利技术属性】
技术研发人员：周旺，
申请(专利权)人：昆山盛睿杰机电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32