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本发明涉及一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置，包括反应室，所述反应室顶部贯通固定设有进气管，所述进气管一端部贯通固定连接有气源室，所述反应室一侧底部贯通固定设有出气管，所述出气管一端部固定连接有真空泵，所述反应室底部固定设有驱动电机，...
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