一种同轴传输线共面补偿结构制造技术

本实用新型专利技术技术方案公开了一种同轴传输线共面补偿结构，包括外导体、安装于所述外导体内腔中的内导体以及，安装于所述外导体的内腔中且分别与所述内导体和所述的外导体接触的介质支撑，其特征在于，所述内导体与所述介质支撑接触的端面为所述外导体的径向最小面，和/或所述外导体与所述介质支撑接触的位置处于所述介质支撑的两侧形成有环槽；本实用新型专利技术通过减小内导体上与介质支撑接触的端面的面积以缩小不连续电容的大小，同时由于内导体与介质支撑之间形成电感补偿区，以引入等效电感来补偿剩余的不连续电容。

【技术实现步骤摘要】
一种同轴传输线共面补偿结构
本技术涉及射频微波通信
，尤其是涉及一种同轴传输线共面补偿结构。
技术介绍
同轴传输线由外直径为d的圆柱内导体和内直径为D的圆柱壳外导体构成，内、外导体均为理想导体，内、外导体之间可以填充介质或者空气。常用的空气介质同轴传输线使用介质支撑来保持内、外导体之间的相对位置，由于介质支撑的引入，使内、外导体的尺寸d和D发生突变，不仅改变了同轴传输线的结构，还在介质支撑存在的地方引入了不连续性，因此必须引入本地补偿来抵消不连续性的影响。共面补偿就是在介质支撑两侧出现不连续的面上引进补偿来抵消不连续性的影响的一种方法。目前常用的方案是在介质支撑与空气交界的端面上将介质挖去一部分，可以是圆环凹槽，或若干圆形不通的沉孔、通孔，或其他特殊形状，产生的效果取决于挖去部分介质的体积大小，形成小电感来补偿阶梯不连续电容。上述方案由于各种原因导致实施起来具有一定的局限性，比如介质支撑的材料都是以各种工程塑料为主，不同的塑料具有不同的物理特性，设计时主要考虑的有：相对介电常数、表面硬度、机械强度、耐热性、电绝缘性、耐腐蚀性等，由于在各种参数间不同情况下取舍时，导致介质支撑被过度加工成不同的形状，而且工程塑料机械加工，加工难度非常大，公差和批次一致性保证困难，其在被加工时和被使用时，产生的不确定性(如机加工时的机械形变、注塑加工时的相对介电常数变化或可能参入杂质，比如气体、使用过程中受热后的热形变等)，形状越复杂，不确定性产生的误差就越大，加工成型的难度也越大，同时增加了产品的开发周期，这些都无形中降低了产品的电气性能、成品率，进而大大增加了成本。
技术实现思路
本技术解决的技术问题是现有技术通过将介质支撑加工成不同形状以形成电感来补偿不连续电容的方法，加工难度大，加工误差大，增加了开发周期，降低了产品的电气性能及成品率。为解决上述的技术问题，本技术技术方案提供一种同轴传输线共面补偿结构，包括外导体、安装于所述外导体内腔中的内导体以及，安装于所述外导体的内腔中且分别与所述内导体和所述的外导体接触的介质支撑，其中，所述内导体与所述介质支撑接触的端面为所述内导体的径向最小面，和/或所述外导体与所述介质支撑接触的位置处于所述介质支撑的两侧形成有环槽。可选地，所述介质支撑为圆环柱状，所述介质支撑的外圆壁与所述外导体的内壁接触，所述介质支撑的两端的圆环面与所述内导体的端面接触。可选地，所述介质支撑为圆环柱状，所述介质支撑的外圆壁嵌入所述外导体的内壁，所述介质支撑的两端的圆环面与所述内导体的端面接触。可选地，所述内导体呈阶梯轴、锥形轴或异构轴的结构，阶梯轴、锥形轴或异构轴的所述内导体的最小径向端面与所述介质支撑接触。可选地，异构轴为同一轴的不同轴部的径向截面形状不同，且径向截面面积从一段至另一端逐渐增加或减小，径向截面面积最小的端面与所述介质支撑的圆环面接触。可选地，所述内导体的最大端的径向表面至所述介质支撑的圆环面之间的径向空间形成电感补偿区。可选地，所述介质支撑为圆环柱状，所述内导体贯穿所述介质支撑，所述外导体的内壁在与所述介质支撑接触的两侧位置处开设环槽，所述环槽为圆环槽、锥环槽或圆环锥环槽，所述介质支撑的外圆壁接触或嵌入两所述环槽之间的所述外导体的内壁。可选地，所述环槽的轴向尺寸所在的径向空间形成电感补偿区。可选地，所述外导体、所述内导体以及所述介质支撑的结构均为回转结构件。本技术技术方案的有益效果是：本技术通过减小内导体上与介质支撑接触的端面的面积以缩小不连续电容的大小，同时由于内导体与介质支撑之间形成电感补偿区，以引入等效电感来补偿剩余的不连续电容。并且无需对介质支撑进行加工，仅需要对内导体或外导体进行加工即可，由于内外导体的结构尺寸均比介质支撑大，相对能够降低加工难度，有效解决了介质支撑无法精密加工或加工难度大的问题。附图说明图1为现有技术的一种空气介质同轴传输线使用介质支撑的几种结构；图2为现有技术的另一种空气介质同轴传输线使用介质支撑的几种结构；图3为本技术实施例中第一种同轴传输线共面补偿结构系列示意图；图4为本技术实施例中第二种同轴传输线共面补偿结构系列示意图；图5为本技术实施例中第三种同轴传输线共面补偿结构系列示意图。具体实施方式：下面结合附图和具体实施例对本技术作进一步说明，但不作为本技术的限定。请参见图3至图5所示，示出了一种实施例的同轴传输线共面补偿结构，包括外导体1、安装于外导体1内腔中的内导体2以及，安装于外导体1的内腔中且分别与内导体2和的外导体1接触的介质支撑3，其中，内导体2与介质支撑3接触的端面为内导体2的径向最小面，和/或外导体1与介质支撑3接触的位置处于介质支撑3的两侧形成有环槽4。本实施例中，介质支撑3为圆环柱状，介质支撑3的外圆壁与外导体1的内壁接触，介质支撑3的两端的圆环面与内导体2的端面接触。本实施例中，介质支撑3为圆环柱状，介质支撑3的外圆壁嵌入外导体1的内壁，介质支撑3的两端的圆环面与内导体2的端面接触。本实施例中，内导体2呈阶梯轴、锥形轴或异构轴的结构，阶梯轴、锥形轴或异构轴的内导体2的最小径向端面与介质支撑3接触。本实施例中，异构轴为同一轴的不同轴部的径向截面形状不同，且径向截面面积从一段至另一端逐渐增加或减小，径向截面面积最小的端面与介质支撑3的圆环面接触。本实施例中，内导体2的最大端的径向表面至介质支撑3的圆环面之间的径向空间形成电感补偿区。本实施例中，介质支撑3为圆环柱状，内导体2贯穿介质支撑3，外导体1的内壁在与介质支撑3接触的两侧位置处开设环槽4，环槽4为圆环槽、锥环槽或圆环锥环槽，介质支撑3的外圆壁接触或嵌入两环槽4之间的外导体1的内壁。本实施例中，环槽4的轴向尺寸所在的径向空间形成电感补偿区。本实施例中，外导体1、内导体2以及介质支撑3的结构均为回转结构件。通过以下说明进一步地认识本技术的特性及功能。如图1a、1b、1c所示，为常见的空气介质同轴传输线使用介质支撑的几种结构，从这几种形式可以看出，在放介质支撑的地方，内、外导体上尺寸发生改变，形成了圆槽，几何形状上出现了阶梯，正因为这些阶梯，必然引入了不连续电容，但均未做共面补偿处理。如图2a、2b、2c所示，为在图1的基础上，通过在介质支撑与空气交界的端面上将非金属介质挖去一部分，可以是圆环凹槽，或若干圆形不通的沉孔、通孔，或其他特殊形状，产生的效果取决于挖去部分介质的体积大小，形成小电感来补偿阶梯不连续电容，但并没有缩小不连续电容。如图3a、4a、5a所示，为在图1a介质支撑基础上，通过在介质支撑与空气交界的端面上将金属内导体去除一部分，去除部分可以是圆环状、锥环状、圆环加锥环状，或其他特殊形状(产生的效果取决于挖去部分金属的位置和形状)。通过将内导体的最小端面与介质支撑本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种同轴传输线共面补偿结构，包括外导体、安装于所述外导体内腔中的内导体以及，安装于所述外导体的内腔中且分别与所述内导体和所述的外导体接触的介质支撑，其特征在于，所述内导体与所述介质支撑接触的端面为所述内导体的径向最小面，和/或所述外导体与所述介质支撑接触的位置处于所述介质支撑的两侧形成有环槽。/n

【技术特征摘要】
1.一种同轴传输线共面补偿结构，包括外导体、安装于所述外导体内腔中的内导体以及，安装于所述外导体的内腔中且分别与所述内导体和所述的外导体接触的介质支撑，其特征在于，所述内导体与所述介质支撑接触的端面为所述内导体的径向最小面，和/或所述外导体与所述介质支撑接触的位置处于所述介质支撑的两侧形成有环槽。


2.根据权利要求1所述的同轴传输线共面补偿结构，其特征在于，所述介质支撑为圆环柱状，所述介质支撑的外圆壁与所述外导体的内壁接触，所述介质支撑的两端的圆环面与所述内导体的端面接触。


3.根据权利要求1所述的同轴传输线共面补偿结构，其特征在于，所述介质支撑为圆环柱状，所述介质支撑的外圆壁嵌入所述外导体的内壁，所述介质支撑的两端的圆环面与所述内导体的端面接触。


4.根据权利要求3所述的同轴传输线共面补偿结构，其特征在于，所述内导体呈阶梯轴、锥形轴或异构轴的结构，阶梯轴、锥形轴或异构轴的所述内导体的最小径向端面与所述介质支撑接触。


5.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘勤娟，其他发明人请求不公开姓名，
申请(专利权)人：潘勤娟，
类型：新型
国别省市：上海;31