具有混合纳米纹理抗反射涂层的光学元件及其制造方法技术

本申请涉及上面施加有混合纳米纹理抗反射涂层的光学元件的各个实施例，所述光学元件包含：至少一个基板，其具有限定至少一个表面的至少一个基板主体；至少一个层，其能够施加到所述基板主体的表面；以及至少一个纳米纹理表面，其在施加到所述基板主体的所述表面的至少一个层上形成。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有混合纳米纹理抗反射涂层的光学元件及其制造方法相关申请的交叉引用本申请要求2018年3月1日提交的标题为“混合纳米纹理抗反射涂层和装置(HybridNano-TexturedAnti-ReflectiveCoatingsandDevices)”的第62/637,368号美国临时专利申请和2018年3月1日提交的标题为“用于色散控制的纳米纹理电介质涂层(Nano-TexturedDielectricCoatingsforDispersionControl)”的第62/637,380号美国临时专利申请的优先权，所述申请的内容均以全文引用的方式并入本文中。
技术介绍
抗反射涂层通常用于各种光学基板上。通常，将多层电介质材料施加到基板。施加到基板上的材料的电介质层的折射率通常在高折射率和低折射率之间交替变化。虽然抗反射涂层在大多数应用中都能充分发挥作用，但也发现了一些缺点。例如，在一些应用中，使用传统的真空沉积多层电介质涂层可能难以同时实现所需的涂层特征(反射、带宽、透射相位(transmittedphase)、吸收、损伤阈值(damagethreshold)等)本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有混合纳米纹理抗反射涂层的光学元件，其包括：/n至少一个基板，其具有限定至少一个表面的至少一个基板主体；/n至少一个层，其施加到所述至少一个基板主体的所述至少一个表面；以及/n至少一个纳米纹理表面，其在施加到所述至少一个基板主体的所述至少一个表面的所述至少一个层中形成。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180301 US 62/637,380;20180301 US 62/637,3681.一种具有混合纳米纹理抗反射涂层的光学元件，其包括：
至少一个基板，其具有限定至少一个表面的至少一个基板主体；
至少一个层，其施加到所述至少一个基板主体的所述至少一个表面；以及
至少一个纳米纹理表面，其在施加到所述至少一个基板主体的所述至少一个表面的所述至少一个层中形成。


2.根据权利要求1所述的具有混合纳米纹理抗反射涂层的光学元件，其中所述至少一个基板由非线性光学材料制成。


3.根据权利要求2所述的具有混合纳米纹理抗反射涂层的光学元件，其中所述至少一个基板由β-硼酸钡制成。


4.根据权利要求2所述的具有混合纳米纹理抗反射涂层的光学元件，其中所述至少一个基板由选自由以下组成的组的至少一种材料制成：三硼酸锂、硼酸锂铯、硼酸铋、磷酸氧钛钾、磷酸二氢钾和氘化磷酸二氢钾。


5.根据权利要求1所述的具有混合纳米纹理抗反射涂层的光学元件，其中所述至少一个基板由各向异性光学材料制成。


6.根据权利要求1所述的具有混合纳米纹理抗反射涂层的光学元件，其由选自由以下组成的组的至少一种材料制成：钇铝石榴石、镥铝石榴石、氟化钙。


7.根据权利要求1所述的具有混合纳米纹理抗反射涂层的光学元件，其中施加到所述至少一个表面的所述至少一个层包括多层电介质堆叠，所述多层电介质堆叠具有交替的高折射率材料层和低折射率材料层。


8.根据权利要求7所述的具有混合纳米纹理抗反射涂层的光学元件，其中所述高折射率材料层中的至少一个选自由以下组成的组：TiOx、TiO2、Nb2O3、Ta2O5、HfO2、Sc2O3、Y2O3、Al2O3和Gd2O3。


9.根据权利要求7所述的具有混合纳米纹理抗反射涂层的光学元件，其中所述低折射率材料层中的至少一个选自由以下组成的组：SiO2、MgF2、Al2O3和AlF3。


10.根据权利要求7所述的具有混合纳米纹理抗反射涂层的光学元件，其中使用等离子体蚀刻工艺来形成所述至少一个纳米纹理表面。


11.根据权利要求7所述的具有混合纳米纹理抗反射涂层的光学元件，其中所述光学元件包括啁啾镜。


12.一种具有混合纳米纹理抗反射涂层的光学元件，其包括：
至少一个基板，其具有限定至少一个表面的至少一个基板主体；
至少一个层，其施加到所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：汤玛士·索蘇诺斯基，阿伦·彼特森，理查·波吉，克里斯朵夫·蒂森，史蒂芬·阿特，马克·费德曼，
申请(专利权)人：新港公司，
类型：发明
国别省市：美国;US