The invention discloses a surface treatment liquid and an optical film. Surface treatment solution includes solvent and surface treatment agent. The surface treatment agent is an ionic compound with organic cation and melting point above 25 \u2103 and below 50 \u2103. The invention can improve the problem that the components of the optical roll film adhere to the cutting tool.
【技术实现步骤摘要】
表面处理液及光学膜
本专利技术涉及一种表面处理液及光学膜，且特别是有关于一种具有离子性化合物的表面处理液及光学膜。
技术介绍
在裁切光学卷膜时，光学卷膜的成分会沾附在裁切刀具上。此些沾附成分在下次裁切时会残留在光学卷膜的裁切面，而对裁切面造成污染。因此，亟需提出一种能改善光学卷膜的成分沾附在裁切刀具的技术。
技术实现思路
因此，本专利技术提出一种表面处理液及光学膜，可改善现有问题。本专利技术一实施例提出一种表面处理液。表面处理液包括溶剂及表面处理剂。表面处理剂为具有有机阳离子并且熔点为25℃以上且50℃以下的离子性化合物。其中，该溶剂包含酒精及水。其中，该酒精与水的比例介于1：1～3：7。其中，该表面处理剂为抗静电剂。其中，该表面处理剂的重量百分比为该溶剂的0.1～5％。其中，该有机阳离子包含咪唑鎓阳离子、吡啶鎓阳离子、铵阳离子、锍阳离子与鏻阳离子至少一者。其中，由该吡啶鎓阳离子所组成的吡啶鎓盐的结构式如下：其中，R3表示具有12-1...
【技术保护点】
1.一种表面处理液，其特征在于，包括：/n溶剂；以及/n表面处理剂，为具有有机阳离子并且熔点为25℃以上且50℃以下的离子性化合物。/n
【技术特征摘要】
20180511 TW 107116097;20190129 TW 1081032621.一种表面处理液，其特征在于，包括：
溶剂；以及
表面处理剂，为具有有机阳离子并且熔点为25℃以上且50℃以下的离子性化合物。
2.根据权利要求1所述的表面处理液，其特征在于，该溶剂包含酒精及水。
3.根据权利要求2所述的表面处理液，其特征在于，该酒精与水的比例介于1：1～3：7。
4.根据权利要求1所述的表面处理液，其特征在于，该表面处理剂为抗静电剂。
5.根据权利要求1所述的表面处理液，其特征在于，该表面处理剂的重量百分比为该溶剂的0.1～5％。
6.根据权利要求1所述的表面处理液，其特征在于，该有机阳离子包含咪唑鎓阳离子、吡啶鎓阳离子、铵阳离子、锍阳离子与鏻阳离子至少一者。
7.根据权利要求6所述的表面处理液，其特征在于，由该吡啶鎓阳离子所组成的吡啶...
【专利技术属性】
技术研发人员：能木直安，刘君伟，李胜仪，林如伦，杨以权，
申请(专利权)人：住华科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;TW
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