点阵生成方法、装置、存储介质、电子设备及VCSEL阵列光源制造方法及图纸

本申请提供一种点阵生成方法、装置、存储介质、电子设备及VCSEL阵列光源，方法包括：获取VCSEL阵列光源对应的点阵区域的区域参数和预设的点间距参数，其中，点间距参数表示点阵区域中任意两点之间的最小距离；根据区域参数和点间距参数，在点阵区域内生成随机点，以得到VCSEL阵列光源对应的点阵。这样可以保证点阵的高度不相关性，也可以根据实际需要，设定区域参数和点间距参数，从而尽可能根据实际需要，得到满足要求的具有高度不相关性的点阵，从而使VCSEL阵列光源投射到空间的散斑点具有高度的不相关性，以便于结构光深度信息的计算或获取。并且，通过这样的方式获得的点阵，其投射到空间的散斑点还具有唯一性，能够很好地满足散斑结构光的深度信息重建。

【技术实现步骤摘要】
点阵生成方法、装置、存储介质、电子设备及VCSEL阵列光源
本申请涉及3D成像
，具体而言，涉及一种点阵生成方法、装置、存储介质、电子设备及VCSEL阵列光源。
技术介绍
近年来，3D(3-Dimension，三维)成像在消费电子领域中的应用越来越广，例如在3D扫描，人脸支付，场景建模等领域的应用。3D成像技术不仅可以对目标物体进行成像，而且还能获取目标物体的深度信息。结构光或者TOF(TimeOfFlight，时间飞行)深度相机是目前应用最广的3D成像设备。深度相机里面最重要的核心部件就是激光投射模组。激光投射模组用于向空间中投射散斑点图案，以实现结构光深度的测量。激光投射模组主要可以由VCSEL(Vertical-CavitySurface-EmittingLaser，垂直腔面发射激光器)阵列光源、准直镜和DOE(DiffractiveOpticalElement，衍射光学元件)等构成。其中，VCSEL阵列光源通常是在半导体衬底上集成多个子光源以构成，对于结构光深度信息计算或获取，要求投射到空间的散斑点具有高度的不相关性，因此本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种点阵生成方法，其特征在于，包括：/n获取VCSEL阵列光源对应的点阵区域的区域参数和预设的点间距参数，其中，所述点间距参数表示所述点阵区域中任意两点之间的最小距离；/n根据所述区域参数和所述点间距参数，在所述点阵区域内生成随机点，以得到所述VCSEL阵列光源对应的点阵。/n

【技术特征摘要】
1.一种点阵生成方法，其特征在于，包括：
获取VCSEL阵列光源对应的点阵区域的区域参数和预设的点间距参数，其中，所述点间距参数表示所述点阵区域中任意两点之间的最小距离；
根据所述区域参数和所述点间距参数，在所述点阵区域内生成随机点，以得到所述VCSEL阵列光源对应的点阵。


2.根据权利要求1所述的点阵生成方法，其特征在于，所述根据所述区域参数和所述点间距参数，在所述点阵区域内生成随机点，包括：
根据所述区域参数，确定出所述点阵区域对应的坐标范围；
利用随机函数，在所述坐标范围内随机生成待定点；
将符合所述点间距参数的要求的所述待定点确定为所述点阵区域的随机点。


3.根据权利要求2所述的点阵生成方法，其特征在于，所述将符合所述点间距参数的要求的所述待定点确定为所述点阵区域的随机点，包括：
确定出所述待定点的坐标；
根据所述待定点的坐标，确定出所述待定点与所述点阵区域内已存在的随机点的最小距离；
在所述最小距离不低于所述点间距参数时，确定所述待定点为所述点阵区域的随机点。


4.根据权利要求3所述的点阵生成方法，其特征在于，所述根据所述待定点的坐标，确定出所述待定点与所述点阵区域内已存在的随机点的最小距离，包括：
将所述点阵区域内已存在的随机点的坐标与所述待定点的坐标比较，确定出横坐标与所述待定点的横坐标之间的差值不高于所述点间距参数且纵坐标与所述待定点的纵坐标之间的差值不高于所述点间距参数的邻近随机点；
计算每个所述邻近随机点与所述待定点的距离，并确定出其中的最小距离。


5.根据权利要求2所述的点阵生成方法，其特征在于，所述将符合所述点间距参数的要求的所述待定点确定为所述点阵区域的随机点，包括：
确定出所述待定点的坐标；
将所述点阵区域内已存在的随机点的坐标与所述待定点的坐标比较；
在确定不存在横坐标与所述待定点的横坐标之间的差值不高于所述点间距参数且纵坐标与所述待定点的纵坐标之间的差值不高于所述点间距参数的邻近随机点时，确定所述待定点为所述点阵区域的随机点。


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【专利技术属性】
技术研发人员：陈展耀，戴书麟，刘风雷，
申请(专利权)人：浙江水晶光电科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33