墨滴捕获薄膜、发光器件及其桥连缺陷的修复方法和制作方法技术

本发明专利技术涉及一种墨滴捕获薄膜、发光器件及其桥连缺陷的修复方法和制作方法。该墨滴捕获薄膜的薄膜本体表面具有多个密集分布的微凸起，通过对基板上墨水材料的沉积效果进行检测，对检测到有桥连缺陷的像素坑，基于花瓣效应使用墨滴捕获薄膜对发生桥连缺陷的墨滴进行吸附，将其移出像素坑或将其在相邻像素坑之间的部分打断，然后再对像素坑重新进行墨水补充，可以对桥连缺陷进行修复。该桥连缺陷的修复方法，能够在空穴注入层、空穴传输层或发光层的墨水沉积时修复桥连缺陷，避免发光层因下层的桥连缺陷而发生混色，从而提高发光器件的工艺稳定和产品良率。

【技术实现步骤摘要】
墨滴捕获薄膜、发光器件及其桥连缺陷的修复方法和制作方法
本专利技术涉及电致发光
，尤其是涉及一种墨滴捕获薄膜、发光器件及其桥连缺陷的修复方法和制作方法。
技术介绍
有机发光二极管(OLED)、量子点发光二极管(QLED)等发光器件因其色域广、对比度高、响应迅速、视角大、功耗低等优点，近年来作为下一代显示技术而倍受关注。发光二极管的结构一般包括阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极等。其中的空穴注入层、空穴传输层、发光层除了可以使用传统的蒸镀方法来制备外，还可以使用喷墨印刷的方法来制备，具体是：将功能材料溶解到有机溶剂中制成墨水，再用喷墨印刷的方式准确沉积到每一个像素坑中；沉积后，经过减压干燥，使有机溶剂完全挥发，只留下功能材料形成的薄膜，然后再对薄膜进行烘烤，便完成一层功能层的制备；然后，在这一层功能层的基础上，再次进行喷墨印刷、减压干燥和烘烤，制备下一个功能层，直到空穴注入层、空穴传输层和发光层等全部制备完成。图1为喷墨印刷方法的示意图，其中100为基板，200为喷墨打印头，300为堤本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种墨滴捕获薄膜，其特征在于，包括薄膜本体和设于所述薄膜本体的至少一表面上的微凸起，所述微凸起有多个，多个微凸起在所述薄膜本体的相应表面上密集分布且相邻的所述微凸起之间具有间隙，所述微凸起的径向尺寸及轴向高度均在微米级别。/n

【技术特征摘要】
1.一种墨滴捕获薄膜，其特征在于，包括薄膜本体和设于所述薄膜本体的至少一表面上的微凸起，所述微凸起有多个，多个微凸起在所述薄膜本体的相应表面上密集分布且相邻的所述微凸起之间具有间隙，所述微凸起的径向尺寸及轴向高度均在微米级别。


2.如权利要求1所述的墨滴捕获薄膜，其特征在于，所述薄膜本体与所述微凸起为一体成型的结构；和/或
所述墨滴捕获薄膜整体上采用疏水材料制作成型；和/或
多个所述微凸起在所述薄膜本体的表面上呈多行多列的阵列分布；和/或
所述墨滴捕获薄膜整体上为能够进行弯曲的柔性结构。


3.如权利要求1所述的墨滴捕获薄膜，其特征在于，各所述微凸起为圆柱状结构且远离所述薄膜本体的一端呈半球状。


4.如权利要求1所述的墨滴捕获薄膜，其特征在于，相邻所述微凸起之间的间距大于各所述微凸起的径向尺寸。


5.如权利要求1～4中任一项所述的墨滴捕获薄膜，其特征在于，各所述微凸起的径向尺寸在1μm～2μm，轴向高度在2μm～3μm。


6.如权利要求5所述的墨滴捕获薄膜，其特征在于，相邻的所述微凸起之间的间距为所述微凸起的径向尺寸的1.4倍～1.6倍。


7.如权利要求1～4及6中任一项所述的墨滴捕获薄膜，其特征在于，所述薄膜本体为长方体结构，长度为150-400μm，宽度为150-400μm，所述薄膜本体与所述微凸起的整体厚度为10μm～15μm。


8.一种发光器件的桥连缺陷修复方法，其特征在于，包括如下步骤：
在将墨水材料沉积...

【专利技术属性】
技术研发人员：林杰，
申请(专利权)人：广东聚华印刷显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44