量子点膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种量子点膜，其从上至下依次是第一水氧阻隔层、基材层、第二水氧阻隔层、扩散层，且各层之间相互粘连贴合；第一水氧阻隔层下表面设置有反光凸起，基材层上表面设置有与反光凸起位置相对的第一凹槽，基材层下表面设置有第二凹槽，第一凹槽内和第二凹槽内均设置有量子点胶水，第一凹槽所在位置和第二凹槽所在位置相间设置；扩散层下表面还设置有反光凹槽。本实用新型专利技术中密封的第一凹槽和第二凹槽能有效避免量子点膜被氧化部分从边缘向内部蔓延，延长量子点膜使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
量子点膜
本技术涉及光学膜
，具体涉及一种量子点膜。
技术介绍
现有的量子点膜的普遍结构是两张水氧阻隔膜之间夹着量子点层，这种结构可以防止水氧在上下两个表面对量子点层的侵蚀。然而，在将量子点膜安装到显示设备之前，还需要根据不同设备的尺寸要求对量子点膜进行裁切，在量子点膜的边缘，由于需要裁切的缘故，量子点层会暴露在空气中，随着使用时间的推移，量子点层边缘会因为水氧侵蚀而失去荧光，而且无荧光的边缘区域会越来越大逐渐向内部蔓延。
技术实现思路
本技术的一个目的是解决至少上述问题，并提供至少后面将说明的优点。本技术还有一个目的是提供一种量子点膜，其通过将量子点分别密封在多个封闭的凹槽内，当量子点膜被切割后，只有边缘被切割的凹槽内的量子点被氧化，从而有效避免量子点膜被氧化部分从边缘向内部蔓延，延长量子点膜使用寿命。为了实现根据本技术的这些目的和其他优点，提供了一种量子点膜，包括：量子点层，其包括：第一水氧阻隔层，其下表面设置有反光凸起；基材层，其上表面与所述第一水氧阻隔层下表面贴合，所述基材层本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.量子点膜，其特征在于，包括：/n量子点层，其包括：/n第一水氧阻隔层，其下表面设置有反光凸起；/n基材层，其上表面与所述第一水氧阻隔层下表面贴合，所述基材层上表面设置有第一凹槽，所述第一凹槽与所述反光凸起位置相对，所述基材层下表面设置有第二凹槽，所述第一凹槽内和所述第二凹槽内均设置有量子点胶水，所述第一凹槽所在位置和所述第二凹槽所在位置相间设置；/n第二水氧阻隔层，其上表面与所述基材层下表面贴合；/n扩散层，其上表面与所述第二水氧阻隔层下表面贴合，所述扩散层下表面设置有反光凹槽。/n

【技术特征摘要】
1.量子点膜，其特征在于，包括：
量子点层，其包括：
第一水氧阻隔层，其下表面设置有反光凸起；
基材层，其上表面与所述第一水氧阻隔层下表面贴合，所述基材层上表面设置有第一凹槽，所述第一凹槽与所述反光凸起位置相对，所述基材层下表面设置有第二凹槽，所述第一凹槽内和所述第二凹槽内均设置有量子点胶水，所述第一凹槽所在位置和所述第二凹槽所在位置相间设置；
第二水氧阻隔层，其上表面与所述基材层下表面贴合；
扩散层，其上表面与所述第二水氧阻隔层下表面贴合，所述扩散层下表面设置有反光凹槽。


2.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹文龙，金玄，李化玺，尹强强，
申请(专利权)人：四川欣富瑞科技发展有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51