原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及离子辐照分析技术领域，且公开了原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置，包括底座，所述底座的顶部固定安装有支撑台，所述支撑台的顶部固定安装有摄像模块。该原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置，通过对样品本体的调节，来确保离子光速聚焦在样品表面，通过第一电机的运行其输出轴的转动，带动螺纹杆进行旋转，通过联轴器的安装，使第一电机输出轴与螺纹杆之间的连接更为稳固，通过轴承的安装，使得螺纹杆转动的时候更加平稳，在其转动的过程中，螺纹套在其外表面向上进行移动，支杆带着限定杆和样品本体随着一起运行，来实现对样品本体的高度调节，达到了方便调节的目的。

【技术实现步骤摘要】
原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置
本技术涉及离子辐照分析
，具体为一种原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置。
技术介绍
由于发光光谱超高的灵敏度，因此在现有的材料离子辐照损伤研究中，一种有效的测试方法即是，通过测试材料的发光光谱来表征辐照损伤的光学特征，在对离子辐照损伤光学特征深度分布的过程中，需要分析装置的显微镜结构，对样品在屏幕上成像后，对其分布曲线进行分析排列，从中分析出离子的特性。现有的离子分析装置多种多样，但是普遍上存在着不方便调节的缺点，为了分析结果的准确，需要保证光谱仪与离子束在样品表面聚焦的焦点在同一位置，所以需要对样品的位置进行调节，而对样品的调节基本上是人为手动进行调节，操作起来较为不便，存在着一定的误差，影响了分析结果的准确性，故而提出一种原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置来解决上述所提出的问题。
技术实现思路
(一)解决的技术问题针对现有技术的不足，本技术提供了一种原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置，具备方便调节等优点，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的顶部固定安装有支撑台(2)，所述支撑台(2)的顶部固定安装有摄像模块(3)，所述底座(1)的顶部固定安装有驱动箱(4)，所述驱动箱(4)的顶部固定安装有第一电机(5)，所述驱动箱(4)的内部固定安装有支撑板(6)，所述支撑板(6)的内部固定安装有联轴器(7)，所述驱动箱(4)内腔的底壁固定安装有轴承(8)，所述联轴器(7)和轴承(8)的内部固定安装有螺纹杆(9)，所述螺纹杆(9)的外表面活动安装有螺纹套(10)，所述螺纹套(10)的右侧固定安装有侧杆(11)，所述驱动箱(4)的右侧开设有杆口(1...

【技术特征摘要】
1.原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的顶部固定安装有支撑台(2)，所述支撑台(2)的顶部固定安装有摄像模块(3)，所述底座(1)的顶部固定安装有驱动箱(4)，所述驱动箱(4)的顶部固定安装有第一电机(5)，所述驱动箱(4)的内部固定安装有支撑板(6)，所述支撑板(6)的内部固定安装有联轴器(7)，所述驱动箱(4)内腔的底壁固定安装有轴承(8)，所述联轴器(7)和轴承(8)的内部固定安装有螺纹杆(9)，所述螺纹杆(9)的外表面活动安装有螺纹套(10)，所述螺纹套(10)的右侧固定安装有侧杆(11)，所述驱动箱(4)的右侧开设有杆口(12)，所述侧杆(11)的右侧固定安装有限定块(13)，所述限定块(13)的内部活动安装有限定杆(14)，所述底座(1)的顶部固定安装有支杆(15)，所述支杆(15)的外表面活动安装有杆套(16)，所述杆套(16)的左侧固定安装有第二电机(17)，所述第二电机(17)与限定杆(14)相对的一侧之间固定安装有样品控制台(18)，所述样品控制台(18)的顶部固定安装有样品本体(19)。


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【专利技术属性】
技术研发人员：李颜，李润发，王传真，王玲玲，吴玉莲，杨小祥，
申请(专利权)人：南通励思仪电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32