本实用新型专利技术提供一种取样装置,包括:基台,用于承载待切割样品,所述基台限定有腔室;压板,所述压板与所述基台间隔开设置,所述压板位于所述腔室的上方,所述压板沿垂直于所述基台的方向可移动以固定所述待切割样品,所述压板为透明状且所述压板上设有刻度线或坐标轴;切割结构,所述切割结构设置于所述腔室中以切割所述待切割样品。在取样过程中,将待切割样品置于基台上,通过压板上的刻度线或坐标轴确定切割位置,移动压板将待切割样品固定在基台上,通过切割结构对待切割样品进行切割,便于对多批次大量取样,准确重复性高,能够减小取样偏差,取样简单快速,样品的完整度好,减小对测试结果的影响。
【技术实现步骤摘要】
一种取样装置
本技术涉及硅片
,具体涉及一种取样装置。
技术介绍
为了保证硅片生产的品质需求,许多参数需要进行测试后才能正常生产,如拓展电阻,就需要对硅片进行部分取样后,才可以进行测试分析,准确完整的样品对测试结果的准确与否起到很大的作用。通常对硅片进行取样的方式为将硅片沿直径切开后,再沿半径方向进行条形切割,切成长条后,再根据取样大小进行块状切割,整个过程都需要人工进行对位,现有的取样方式,复杂繁琐,对操作人员的经验有着很大的要求,对于多批次大量的取样,无法进行准确重复,再现性极差,由于手动操作,会带来不同程度上的误差,对测试结果有很大的影响。
技术实现思路
有鉴于此,本技术提供一种取样装置,用以解决取样过程中过程复杂,样品偏差大,样品的重复性差,不便于取样的问题。为解决上述技术问题,本技术采用以下技术方案:第一方面,根据本技术实施例的取样装置,包括:基台,用于承载待切割样品,所述基台限定有腔室;压板,所述压板与所述基台间隔开设置,所述压板位于所述腔室的上方,所述压板沿垂直于所述基台的方向可移动以固定所述待切割样品,所述压板为透明状且所述压板上设有刻度线或坐标轴;切割结构,所述切割结构设置于所述腔室中以切割所述待切割样品。其中,所述基台包括两个基座,两个所述基座间隔开限定出所述腔室。其中,两个所述基座之间的间隔距离可调以调节所述腔室的宽度。其中,所述切割结构包括多个切割笔,多个所述切割笔沿所述腔室的宽度方向间隔开设置,且多个所述切割笔沿所述腔室的长度方向可移动。其中,所述切割结构包括两个所述切割笔,两个所述切割笔之间的间隔距离可调。其中,还包括:支撑杆,所述支撑杆的一端垂直设在所述基台上,所述压板设在所述支撑杆上,所述压板沿所述支撑杆的长度方向可移动以固定所述待切割样品。其中,所述支撑杆具有多个,多个所述支撑杆沿所述基台的周向间隔开设置。其中,所述腔室的两端沿所述腔室的长度方向贯穿。本技术的上述技术方案的有益效果如下:根据本技术实施例的取样装置,基台用于承载待切割样品,所述基台限定有腔室,所述压板与所述基台间隔开设置,所述压板位于所述腔室的上方,所述压板沿垂直于所述基台的方向可移动以固定所述待切割样品,所述压板为透明状且所述压板上设有刻度线或坐标轴,所述切割结构设置于所述腔室中以切割所述待切割样品。在取样过程中,将待切割样品置于基台上,待切割样品的两端分别置于腔室两侧的基台,可以通过压板上的刻度线或坐标轴确定切割位置和区域,再沿着竖直方向移动压板将待切割样品固定在基台上,此时,腔室中的切割结构位于待切割样品的下侧,通过切割结构对待切割样品进行切割,便于对多批次大量取样,准确重复性高,能够减小取样偏差,取样简单快速,样品的完整度好,减小对测试结果的影响。附图说明图1为本技术实施例的取样装置的一个结构示意图;图2为取样时的一个示意图;图3为取样时的另一个示意图;图4为取样时掰开后的一个示意图。附图标记基座10;腔室11;压板20;切割笔30;支撑杆40;待切割样品50。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本技术实施例的附图,对本技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本技术的实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。下面具体描述根据本技术实施例的取样装置。如图1所示,根据本技术实施例的取样装置包括基台、压板20和切割结构,其中,基台用于承载待切割样品50,基台限定有腔室11,压板20与基台间隔开设置,压板20位于腔室11的上方,压板20沿垂直于基台的方向可移动以固定待切割样品50,压板20为透明状且压板20上设有刻度线或坐标轴,切割结构设置于腔室11中以切割待切割样品50。也就是说,取样装置主要由基台、压板20和切割结构构成,其中,基台可以用于承载待切割样品50,基台限定有腔室11,腔室11可以为长方体状,压板20位于基台的上方,压板20与基台的形状尺寸可以一致,压板20与基台间隔开设置,压板20位于腔室11的上方,以便将待切割样品50置于基台上时固定待切割样品50,压板20沿垂直于基台的方向可移动以固定待切割样品50,将待切割样品50置于基台上时向下沿着垂直于基台的方向移动压板20,以便通过压板20固定待切割样品50,防止待切割样品50移动,压板20可以为透明状,且压板20上可以设有刻度线或坐标轴,使得待切割样品50(比如硅片)放置位置可进行坐标位置定位,便于后续样品的取样位置相同,通过刻度线或坐标轴可以确定切割的位置区域或尺寸,切割结构设置于腔室11中以切割待切割样品50,压板20固定待切割样品50后,通过切割结构从待切割样品50的下侧切割样品。在取样过程中,如图2所示,先将待切割样品50置于基台上,待切割样品50的两端可以分别置于腔室11两侧的基台,可以通过压板20上的刻度线或坐标轴确定切割位置区域或尺寸,再沿着竖直方向移动压板20将待切割样品50固定在基台上,此时,腔室11中的切割结构位于待切割样品50的下侧,通过切割结构对待切割样品50进行切割,可以在待切割样品50上切割多道切割线,比如切割四道第一切割线,切割结束后,抬起压板20,如图3所示,可以再次按照上述操作再次对待切割样品50进行切割,可以沿垂直于第一切割线的方向再次切割形成四道第二切割线,第一切割线和第二切割线限定出A、B、C和D四个区域,切割完成后,取下切割后的待切割样品50,如图4所示,掰下四个区域A、B、C和D,得到需要测试的样品,取样结束。通过上述取样装置,便于对多批次大量取样,能够减小取样偏差,样品的完整度好,取样周期短,可缩短取样时间,取样过程简单,对操作人员经验要求不高,取样位置可以不固定,待切割样品(比如硅片)的任何位置都可以取样,取样位置灵活,可在硅片上同时制备多个样品,多批次重复取样时,取样位置可完全相同,准确重复性高,可以减少人和样品的接触,减小对测试结果的影响。在一些实施例中,如图1所示,基台可以包括两个基座10,两个基座10间隔开限定出腔室11,可以将两个基座10设置在底板上,基座10可以为长方体状,两个基座间隔开且相互平行设置以限定出长方体状的腔室11。在另一些实施例中,两个基座10之间的间隔距离可调以调节腔室11的宽度,通过调节两个基座10的间隔距离调节腔室11的宽度,以便适应不同尺寸的待切割样品,比如,可适用于8寸、12寸或更大尺寸的硅片进行取样测试。根据本技术的一些实施例,切割结构可以包括多个切割笔30,切割笔30可以为金刚笔,多个切割笔30可以沿腔室11的宽度方向间隔开设置,且多个切割笔30沿腔室11的长度方向可移动,可以本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种取样装置,其特征在于,包括:/n基台,用于承载待切割样品,所述基台限定有腔室;/n压板,所述压板与所述基台间隔开设置,所述压板位于所述腔室的上方,所述压板沿垂直于所述基台的方向可移动以固定所述待切割样品,所述压板为透明状且所述压板上设有刻度线或坐标轴;/n切割结构,所述切割结构设置于所述腔室中以切割所述待切割样品。/n
【技术特征摘要】
1.一种取样装置,其特征在于,包括:
基台,用于承载待切割样品,所述基台限定有腔室;
压板,所述压板与所述基台间隔开设置,所述压板位于所述腔室的上方,所述压板沿垂直于所述基台的方向可移动以固定所述待切割样品,所述压板为透明状且所述压板上设有刻度线或坐标轴;
切割结构,所述切割结构设置于所述腔室中以切割所述待切割样品。
2.根据权利要求1所述的取样装置,其特征在于,所述基台包括两个基座,两个所述基座间隔开限定出所述腔室。
3.根据权利要求2所述的取样装置,其特征在于,两个所述基座之间的间隔距离可调以调节所述腔室的宽度。
4.根据权利要求1所述的取样装置,其特征在于,所述切割结构包括多个切割笔,...
【专利技术属性】
技术研发人员:代斌洲,张翔,刘思雨,
申请(专利权)人:西安奕斯伟硅片技术有限公司,
类型:新型
国别省市:陕西;61
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