【技术实现步骤摘要】
单晶磨抛控制系统
本技术涉及一种单晶磨抛控制系统，属于单晶的联动控制
技术介绍
不同规格单晶需要进行弧或者角、面一体磨抛，数控磨床虽然可以粗磨、精磨、单面、单弧，但是尚不具备一体精准磨抛的功能。随着消费电子、机械制造业对磨抛加工精度的要求提高，数控磨床的稳定性和控制水平有待提高，尤其是在单晶磨抛领域。
技术实现思路
针对现有技术存在的上述缺陷，本技术提出了一种单晶磨抛控制系统，实现单晶磨抛精度控制。本技术所述的单晶磨抛控制系统，包括PLC控制器、夹持机构、磨抛机构、位移传感器、工作台和丝杠机构，还包括夹持变频器、磨抛变频器、丝杠变频器、显示器和位移控制器，PLC控制器控制夹持变频器控制夹持机构，夹持机构控制单晶的夹持；PLC控制器控制磨抛变频器控制磨抛机构，磨抛机构控制单晶的粗磨和精磨；PLC控制器控制丝杠变频器控制丝杠机构，丝杠机构控制夹持机构的左右间距；PLC控制器通过位移控制器控制位移传感器，位移传感器检测单晶的边缘，检测到的边缘信号通过PLC控制器反馈到磨抛机构对单晶的磨抛进行控制。...
【技术保护点】
1.一种单晶磨抛控制系统，包括PLC控制器(6)、夹持机构(1)、磨抛机构(2)、位移传感器(3)、工作台(4)和丝杠机构(5)，其特征在于，还包括夹持变频器(7)、磨抛变频器(8)、丝杠变频器(9)、显示器(10)和位移控制器(11)，PLC控制器(6)控制夹持变频器(7)控制夹持机构(1)，夹持机构(1)控制单晶的夹持；PLC控制器(6)控制磨抛变频器(8)控制磨抛机构(2)，磨抛机构(2)控制单晶的粗磨和精磨；PLC控制器(6)控制丝杠变频器(9)控制丝杠机构(5)，丝杠机构(5)控制夹持机构(1)的左右间距；PLC控制器(6)通过位移控制器(11)控制位移传感器(3...
【技术特征摘要】
1.一种单晶磨抛控制系统，包括PLC控制器(6)、夹持机构(1)、磨抛机构(2)、位移传感器(3)、工作台(4)和丝杠机构(5)，其特征在于，还包括夹持变频器(7)、磨抛变频器(8)、丝杠变频器(9)、显示器(10)和位移控制器(11)，PLC控制器(6)控制夹持变频器(7)控制夹持机构(1)，夹持机构(1)控制单晶的夹持；PLC控制器(6)控制磨抛变频器(8)控制磨抛机构(2)，磨抛机构(2)控制单晶的粗磨和精磨；PLC控制器(6)控制丝杠变频器(9)控制丝杠机构(5)，丝杠机构(5)控制夹持机构(1)的左右间距；PLC控制器(6)通过位移控制器(11)控制位移传感器(3)，位移传感器(3)检测单晶的边缘，检测到的边缘信号通过PLC控制器(6)反馈到磨抛机构(2)对单晶的磨抛进行控制。
2.根据权利要求1所述的单晶磨抛控制系统，其特征在于，所述还包括显示器(10)，PLC...
【专利技术属性】
技术研发人员：李泽荣，王得义，张宇，
申请(专利权)人：青岛思锐自动化工程有限公司，
类型：新型
国别省市：山东;37
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